三脉冲冷原子陀螺仪中基于内态演化的拉曼光光强补偿算法

由于在复杂环境中拉曼光功率不稳定会导致原子脉冲的宽度发生改变,从而影响陀螺仪的测量精度.通过对冷原子干涉仪的干涉全过程进行建模,计算得出了陀螺仪在拉曼光改变情形下输出相位的解析表达式,即建立了拉曼光在非近共振条件下强度变化时陀螺仪的输出值与外界载体运动之间的关系.与此同时,基于该解析表达式提出了一种对拉曼光光强的补偿算...     

热控涂层电子辐照效应

研究防静电Kapton二次表面镜(ITO/Kapton/Al)、S781白漆两种典型热控涂层,在不同能量电子辐照后太阳吸收比退化情况,并利用X射线光电子能谱和扫描电子显微镜对样品表面的成分和形貌进行了分析。结果表明:相同电子注量下,不同能量电子对样品的太阳吸收比退化作用程度是有区别的。而样品光谱反射率、表面形貌、表面成分的损伤效应类似,说明不同能量电子辐照下,样品的退化机理是一致的。     

γ射线和原子氧辐照对ZnO:Al薄膜的影响

利用直流磁控溅射法制备了两组ZAO薄膜,使用60Co放射源对一组薄膜进行了γ射线辐照,在原子氧地面模拟设备中对另一组进行了原子氧辐照,并对辐照前后的样品进行了微观结构、表面形貌及电学特性的表征。结果表明,较高剂量率的γ射线辐照会降低薄膜的结晶程度,而低剂量率的辐照有相反作用。γ射线可激发薄膜中的电子,提高其载流子浓度,最大比率为16.39%。AO辐照仅对ZAO薄膜的表面具有氧化效应,导致表面化学成分中晶格氧比例的提高和薄膜载流子浓度的下降。随着薄膜厚度的增大,载流子浓度的下降比例逐渐减小。     

氢化物—原子吸收光谱法测定人发中硒的研究

介绍用ＷＨＧ—１０２Ａ型流动注入氢化物发生器与ＷＦＸ—１Ｅ２型原子吸收分光光度计配合，测定人发中硒（Ｓｅ）。硒的吸收信号为平台吸收曲线，比用吸收峰所获得的数据更稳定可靠     

空间环境下的有机热控涂层

本文综述了国外在空间有机热控涂层领域中的研究工作和试验，着重分析了空间极端环境中紫外光辐照和原子氧侵蚀这两大因素对有机热控涂层的影响。     

样本均值的随机加权逼近之必要条件

本证明了样本均值的随机加权统计量几乎处处有效的必要条件为EX^2<∞；若将“几乎处处”条件削弱为“依概率”，则必有X属于正态分布的吸收域。     

双层微波吸收涂层的计算机辅助设计

给出了双层微波吸收涂层的计算机辅助设计的方法和实例。计算结果表明，双层结构涂层的吸波性能明显优于单层，特别是能明显增加带宽。     

喷气动力装置的红外辐射源及其抑制

本文分析喷气动力装置的红外辐射源,并讨论抑制红外辐射的技术途径.喷气动力装置的红外辐射来源于燃烧引起的高温,并可区分为两大类:固体表面的辐射和热喷流的辐射.一般而言,抑制红外辐射可从以下三个方面着手:(1)用冷却或绝热的方法降低辐射表面的温度,或通过蔽挡阻止红外辐射的传播;(2)加速喷气流与周围空气的混合,使喷流温度快速降低;(3)降低燃烧产物中辐射成分的浓度.     

加热切削GH135吸收会焦辐射能的研究

本文介绍了采用高效金属素灯作为加热热源切削ＧＨ１３５等难加工材料的方法。采用该方法可有效改善难加工材料的切削性能，本文重点介绍了辐射能量传递的分析及有效的能量公式。同时指出该方法投产少，使用简单，便于推广等特点，因此具有很好的应用前景。     

原子氧对Kapton／Al薄膜性能影响研究

模拟空间环境下原子氧辐照条件,通过采用固定的原子氧束流密度进行不同时间辐照试验,研究了温控涂层材料Kapton/Al薄膜的质量损失、光学性能、表面形貌和表面粗糙度的演化规律.试验结果表明,原子氧对材料的剥蚀量与原子氧的作用时间成正比例关系.材料辐照后太阳吸收率发生明显变化,而辐射率几乎不发生变化.辐照后试样表面的粗糙度,是影响太阳吸收率变化主要因素.随着辐照时间的增长,材料表面粗糙度增加,导致太阳吸收率增大.