阳极氧化TiO2膜对甲基橙溶液的光催化性能研究

本试验利用阳极氧化的方法在纯钛基体上直接获得锐钛相T iO2多孔膜,解决T iO2光催化剂的涂敷固定问题。用场发射扫描电镜(F ie ld em iss ion scann ing e lectron m icroscope,FESEM)和X射线衍射仪(X-ray d iffractionm eter,XRD)对纯钛表面生成的T iO2多孔膜的形貌和晶体结构进行分析。以10m g/L甲基橙溶液为降解物进行光催化试验,分别研究了阳极氧化电压、溶液的初始pH值、T iO2膜的面积、T iO2膜的使用次数对降解率的影响。试验结果表明,当溶液初始pH值为1时,140V阳极氧化所得T iO2膜的光催化性能最好,同时随着T iO2膜使用次数的增加,但其光催化效果有所下降。     

基于后果损失的科技成果转化风险评估研究

针对风险评价过程中风险传导路径难以确定,风险叠加难以量化的问题,对风险所造成的后果损失进行聚类,构建了基于后果损失的科技成果转化项目风险评价指标体系,引入损失风险严酷度、损失风险发生可能度、损失风险度的概念,建立了基于损失后果风险度的评价模型,采用民航科技成果转化的案例进行了验证.结果表明,该模型能够有效分析风险影响因...     

超音速分离线喷管大摆角状态下化学烧蚀动态仿真

针对超音速分离线喷管大摆角状态下化学烧蚀导致的壁面退移,基于动网格技术建立了相应的动态仿真模型,实现了对不同燃烧室条件下喷管化学烧蚀率的预示。初步稳态计算得到喉部烧蚀率为0.048 6 mm/s,高出试验结果5.67%,验证了仿真设置的合理性。以此状态结果为瞬态计算的初场,进行相应的化学烧蚀动态仿真计算。该喷管的矢量角放大系数在0.5 s仿真时间内因壁面退移减小了0.42%,对称面下侧分离线结构附近因燃气流动受阻成为喷管烧蚀最严重的位置,烧蚀率为0.074 5 mm/s。增大燃烧室压强或温度,会导致同周向位置的分离线后侧与前侧壁面烧蚀率比值减小。对于分离线附近型面变化较小处,压强5.5 MPa增加到7.5 MPa,该比值减小了10%,温度3200 K增加到3600 K减小了15%。     

射流自由长度对凝胶推进剂撞击雾化影响的实验

为研究射流自由长度对凝胶推进剂撞击雾化的影响,建立了撞击雾化实验台,制备了煤油凝胶和水基模拟液,测试了雾化装置的喷射系数及模拟液的黏性和稳定性。分析了3种射流速度不同射流自由长度条件下的凝胶撞击雾化特性,观测了射流和撞击喷雾图像。测量了液膜破碎长度、雾化液滴粒径分布和相应的SMD(索太尔平均直径)值。研究结果表明:低速时,随着射流自由长度增大,撞击液膜的喷雾形态会发生较大变化,而高速条件下,雾化形态则基本一致。3种射流速度下,破碎长度在45~9mm之间,并随射流自由长度逐渐减小。液滴分布服从Rosin Rammler规律,并具有较高的拟合精度。均匀度指数均在3~4之间,并随射流自由长度逐渐降低,粒径均匀度降低;较高射流速度下,SMD随自由长度逐渐增大。低射流速度时,SMD随射流长度先减小后增大,射流自由长度存在一个最优值,在设定研究条件下其值为25/3。因此,在设计撞击喷嘴时,根据射流速度选取适当的自由长度值可以获得更好的雾化效果。      

KrF激光照射约束层靶驱动产生高速飞片研究

微小空间碎片的超高速撞击对航天器性能有重要影响。为了研究撞击损伤机制,在"天光一号"装置上开展了Kr F准分子激光照射约束层靶产生高速飞片的实验研究,利用成像速度干涉仪(Imaging-VISAR)对飞片自由面速度进行诊断。采用1.9 J准分子激光将10μm的Al飞片加速至12 km/s,且整个过程为准等熵加载。研究结果表明准等熵加载下激光能量转化为飞片动能的效率(达39.4%)比冲击加载要高得多,飞片速度也高于后者。     

气体流场对C／C复合材料CVI致密化效果的影响

以丙烯为碳源气体,研究平板针刺预制体在不同倾斜角放置和不同进气方式条件下化学气相渗透（ CVI）工艺制备C／C复合材料的致密化效果。采用工业CT、浸泡介质法和偏光显微镜对沉积样品的密度分布、开孔孔隙率和织构分别进行表征。沉积102 h后,倾斜17°、前进气条件下试件的密度最高,达到1．45 g／cm－3。结果表明,试样由底端到顶端的密度是有小幅递增的,开孔孔隙率是逐渐减小的。4块试件热解炭的织构以光滑层为主,试样消光角的测量结果表明直立状态和倾斜17°、后进气状态热解炭织构取向度从底部到顶端有增大的趋势,这种织构的增长趋势与锥形回转体扩张段的材料设计相符合。     

沉积温度对CVD-SiC涂层显微结构的影响

介绍了采用化学气相沉积（CVD）方法在C/SiC复合材料表面制备SiC抗氧化涂层的情况.对不同工艺条件下制备出的SiC涂层,使用SEM,EDS和XRD分析了沉积层的物相和显微结构.结果表明：SiC涂层生长速度随沉积温度升高而升高,晶粒尺寸也随之增大;在较高沉积温度下,可以产生较大的沉积速度,但SiC涂层表面粗糙度将会增大.     

AZ31镁合金表面化学镀Ni-P非晶镀层

本文针对AZ31镁合金进行表面化学镀镍,优化了化学镀工艺。结合X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、能量色散谱(EDS)等测试方法对镀层表面形貌、结构、成分等做了测定和分析。最后通过电化学实验和盐雾试验等测试方法对Ni-P镀层的性能进行了研究。通过对化学镀工艺的优化,制备出了外观平整、光亮、结合力强、耐腐蚀性能好的Ni-P非晶镀层。     

含氟固体憎水剂的制备及其膜层性能

以有机硅氧烷为基料,通过添加羟基氟硅油等成分,制备了一种含氟固体憎水剂.将所制备的固体憎水剂按不同浓度用乙醇溶解后分别涂覆于A3钢材料表面,均获得了厚度小于1 μm的透明憎水膜层.研究了这些膜层的憎水性和耐腐蚀性能,结果表明,憎水剂的浓度对膜层的憎水性、憎水稳定性及耐腐蚀性等都有影响;氟的添加可有效提高膜层的憎水性能,接触角提高约20°左右,膜层的耐腐蚀性能也得到显著提高.      

最毒不过黄曲霉

黄曲霉毒素(aflatoxins,AFT)是一类化学结构类似的化合物。黄曲霉毒素是主要由黄曲霉(aspergillus flavus)、寄生曲霉(a.parasiticus)产生的次生代谢产物,在湿热地区的食品和饲料中出现黄曲霉毒素的几率最高黄曲霉毒素主要是黄曲霉菌和寄生曲霉菌的二次代谢产物,其化学结构类似,均为二氢呋喃香豆素的衍生物目前已确定的近20种黄曲霉毒素的基本结构中都含有二呋喃环和氧杂萘邻酮,前者为其毒性结构,后者被认为与其致癌有关