数字存储示波器检定方法探讨

讨论了数字存储示波器垂直偏转因数、水平时基、脉冲宽度触发测量方法。以TDS 7104为例,给出了数字存储示波器垂直偏转因数、水平偏转因数、频带宽度及上升时间的测量结果的测量不确定度。     

一种基于共面特征点的单摄像机姿态测量方法研究

利用单摄像机采集4个共面特征点图像的方法来测量物体的相对姿态变化。系统选用IR-LED作为特征点并对其发光特性进行优化控制,利用基于双线性插值的高斯曲面拟合方法确定图像特征点的坐标,最终使用解决P4P问题的一种线性解法确定特征点坐标及位姿变化信息。进行了实物和仿真实验,并对该方法进行了不确定度分析,结果表明这种方案具有较高的准确度、实时性。     

高温湍流场对激光测量的影响

在应用机器视觉技术与激光技术实现高温环境玻璃板厚度检测的过程中,分析了高温气体湍流条件下激光传输光线起伏效应以及光线起伏对激光测量系统性能的影响.利用FLUENT软件,应用流体动力学理论和方法模拟高温环境中激光传输路径内气流的流动,对各种气流组织形式下激光传输过程中的流场、温度场的数值模拟结果进行分析比较,优化仪器设计.     

自动钻铆装备的激光测量系统法向误差研究

飞机装配中铆接部位的孔垂直度直接影响铆钉的连接质量和疲劳寿命,进而影响飞机的力学性能。为了保证飞机铆接垂直度要求,必须分析自动钻铆系统法向误差的影响因素。首先,确定了倾角误差、数学模型的线性误差与法向误差的关系。其次,给出了激光位移传感器安装参数的选取规律,并研究了其对位姿标定的影响。最后,实验验证了安装参数优化后的实际效果。研究结果可为法向测量装置的设计与分析提供理论指导,对于提升自动钻铆系统的法向精度,进而保证孔垂直度要求具有重要意义。     

基于单应性矩阵的模型迎角单目视频测量方法

风洞试验中模型迎角的精准测量是降低阻力系数误差的重要途径之一,为此,提出了基于单应性矩阵的模型迎角单目视频测量方法。该方法通过两个单应性矩阵,获取试验过程中相机实时位姿和标记点物方空间位置坐标,应用坐标旋转关系,完成试验模型的迎角测量。数值仿真试验结果表明：迎角测量误差与待测标记点到风洞壁板间的距离偏差近似为线性关系,因此,当标记点不满足共面条件时,可根据该特点进行测量误差修正。静态标定和风洞迎角测量试验结果表明：修正系统误差后,迎角实测数据的测量准度在0.01°以内,精度不超过0.012°。本文方法易于实施,工程实用价值强。     

合理运用SI技术快速收敛高速数字电路设计

随着数字电路集成度和工作频率的不断提高,信号完整性(Signal Integrity, SI)问题在产品研制过程中越来越突出。以惯导系统中的某导航计算机为例,针对故障信号回路,使用仿真软件对其SDRAM时钟信号进行信号完整性仿真,并进行优化设计。通过对比优化前和优化后的仿真与测量结果,验证了由于端接参数不匹配造成SDRAM时钟信号的非单调性畸变问题。仿真与测量结果表明,在产品研制流程中加入信号完整性仿真环节有利于设计快速收敛,提前规避风险,缩短研发周期,降低设计成本,提高电路产品的可靠性和电磁兼容性。     

贫燃熄火实验预测方法综述

贫燃熄火（Lean Blowout,LBO）属于一类特殊的不稳定燃烧现象,往往导致严重后果。因此,及时准确地预测出贫燃熄火现象是实现燃烧稳定性控制的一个重要前提。本文综述了2000年以来,基于化学发光信号、可见光谱颜色信号、温度信号、声压信号和离子电信号预测LBO的原理,以及其采集方式和各自特点。接着介绍了将这些信号进行分析处理得到控制参数的5类方法,分别为统计法、阈值-事件法、频谱法、符号法和非线性动力学法,将这些方法进行综合比较,评价了其预测效果。最后从实际应用的角度出发,对贫燃熄火检测技术的未来发展提出展望。     

某小型无人机中长波辐射特性测量及辐射强度反演

随着“自杀式”无人机集群的饱和式攻击在战场上发挥巨大威力,如何有效拦截是各国近年来研究的重要方向,而红外探测是最热门也是最高效的探测拦截手段之一。为此,开展某典型无人机目标中长波红外探测试验,获取典型某无人机目标辐射特性数据,完成中长波红外辐射强度反演。同时,考虑环境变化对红外探测的影响,为使用红外探测手段完成无人机目标拦截提供实测效果演示。本文研究结果可作为论证中长波对无人机目标探测差异的依据,以支撑探测体制的选择。     

氙离子推力器束流分布特性研究

建立了离子推力器束流分布的高斯模型,以200mm氙离子推力器为例,在不同工作环境下对推力器束流分布进行了数值模拟,并通过试验测量了推力器引出切面不同位置(轴向z=50mm,z=100mm)下的径向束电流密度和束离子密度分布。通过对数值模拟结果与试验测量结果的比较,误差为17%,认为数值模拟结果与试验测量结果吻合较好。表明离子推力器引出束流呈轴对称分布,在推力器出口附近,束离子密度很大,越往下游,密度越小且束流出现发散。     

磁控溅射沉积工艺条件对薄膜厚度均匀性的影响

薄膜厚度均匀性是衡量薄膜质量和镀膜装置性能的一项重要指标.在自行设计的磁控溅射沉积设备上,对薄膜沉积工艺中靶基间距、溅射功率、工作气压对膜厚均匀性的影响进行了研究,由连续光谱椭圆偏光仪SE800测量薄膜厚度.结果表明:靶基间距较大的情况下,薄膜均匀性明显改善;溅射功率和工作气压对薄膜均匀性也有较大的影响.