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D. E. Page M. Pick L. Kresák G. C. M. Reijnen A. G. W. Cameron Cornelius J. E. Schuurmans Mikhail Ya Marov B. Goldberg T. R. Kaiser J. Lemaire L. Sehnal H. Elsässer B. Valniček W. de Graaff Franco Pacini K. Rohlfs A. C. De Landtsheer I. D. Zhongolovich C. de Jager A. Greve J. Ruprecht R. J. Tayler G. Kockarts W. I. Axford H. Tabor H. J. Bolle E. Kaldis Gijsbertha C. M. Reijnen C. de Loore J. Kleczek C. A. Murray Åke Wallenquist 《Space Science Reviews》1981,28(1):105-118
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采用反应溅射和后续退火工艺,在石英衬底上制备具有热致相变特性的VO_2薄膜,并对薄膜的光学性能进行表征。研究发现:在弱光辐射下,随着温度的改变,薄膜的透射率在可见及近红外光区会发生显著变化,具有良好的相变光开关特性;在强光辐射下,制备的VO_2薄膜同样具有良好的红外光调制深度;当脉冲激光波长为1064 nm时,随着脉冲能量的逐渐增强,薄膜的表面反射率逐渐降低,光限幅性能呈现出先升高再降低的趋势,其透射率最低可降至7%,薄膜的脉冲激光损伤阈值约为50 mJ/cm~2。 相似文献
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