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971.
王巍  何庆芝 《航空学报》1988,9(7):326-332
 本文利用Schwartz-Christoffel映射函数及Muskhelishvili的复变函数方法分析各型分枝裂纹问题。计算结果表明,用本文方法确定各种分枝裂纹的应力强度因子是完全可行的。  相似文献   
972.
针对在电火花加工放电位置检测仪中传感器系统设计方面存在霍尔传感器输出的原始信号幅值微弱的问题,采用将霍尔传感器嵌入在长方体铁氧体材料中组成传感器系统的方法,使原始微弱信号幅值增大了1000倍。  相似文献   
973.
垂直喷流与外流干扰的计算方法   总被引:1,自引:0,他引:1  
将实验数据库方法应用于侧喷与主流干扰的绕流单独体的复杂流动,得到了相似参数Q,即一比与干扰因子Kn、Km和Q之积的线性关系。应用该线性关系,成功地相关了关于Kn、Km和Q的实验数据,并使用这一关系式,很容易计算出干扰气动力和压力中心,计算结果表明,该 具有纠正实验偏差的能力,并提出了获得可靠实验结果的建议。  相似文献   
974.
1.引言 材料在冶炼、加工和使用过程中,不可避免地存在各种初始缺陷或裂纹,对某些关键的或不易检修的构件(如螺旋桨叶、发动机气门弹簧等),常采用无限寿命设计,期望其中的初始缺陷或裂纹不继续扩展。这要求应力强度因子变程△K小于疲劳裂纹扩展门槛值△K_(th),而应力强度因子变程△K是应力变程△σ的函数X(△σ)与初始裂纹尺寸α_0的函数  相似文献   
975.
 本文介绍一种用奇异性杂交应力元及等参元计算平面裂纹的应力强度因子和J积分的方法。实际计算表明,此种方法的优点是精度高,计算时间短,便于实际应用。文中给出三个算例。各例分别采用216~256个自由度。计算结果同解析解及其他奇异元的解进行了比较。各例算得的应力强度因子值,均同解析解相差仅1~2%。每例中由4~6条路径求得的J积分值,其分散度均在±O.7%以内。 计算在TQ-16机上进行,程序编译约6~7分钟,每例的计算时间约6~8分钟。  相似文献   
976.
论斯密的和谐市场经济理论   总被引:1,自引:0,他引:1  
亚当.斯密提出了和谐市场经济理论。和谐市场经济的基础是劳动价值论;和谐市场经济的主体是指在市场经济活动中从事市场经济活动的个体与组织,他们的内在与外在是和谐统一的,彼此之间存在着一种和谐的市场经济关系;和谐市场经济的运行是市场经济中的各种市场机制的和谐运转,这些机制包括价格机制、工资机制、资本运行机制等;和谐市场经济中存在着不和谐的部分或者因素,包括政府干预、垄断等,还包括市场经济的不和谐的运行状态;和谐市场经济并不是一种静止的和谐,它还是一种发展的市场经济。  相似文献   
977.
随着网络带宽的提高以及大量新协议及服务的出现,传统基于专用硬件芯片或者软件的网络处理技术很难同时兼顾高性能和灵活性两方面的要求.网络处理器的高速处理和灵活的可编程性使得它成为解决当今网络数据处理的有效解决方案.本文分析了目前在网络处理器应用开发中存在的问题和面临的挑战,介绍了网络处理器编程模型以及目前相关研究工作,并展望了其未来的发展方向.  相似文献   
978.
基于控制理论和NS方程的气动设计方法研究   总被引:4,自引:0,他引:4  
研究了基于控制理论和NS方程的气动设计方法,针对给定的目标函数表达形式,应用该设计理论在计算坐标下详细推导了相应的共轭方程及边界条件具体表达形式,以及梯度方程求解表达式,通过合理的数学变换,导出了共轭方程在笛卡尔坐标系下的直观表达形式,发展了有效的共轭方程数值求解方法,通过流动控制方程数值求解、共轭方程数值求解、目标函数对设计变量的梯度求解和优化算法等方面的有效结合,研究与发展了一种新的气动设计方法,以二维机翼气动设计为例,成功进行了亚、跨音速情形下的相关设计算例研究,研究结果表明应用控制理论和NS方程的气动设计方法在设计理论、适用性以及时间花费等方面都有着很好的特色和优点,且设计结果也更为可靠.  相似文献   
979.
采用熔融共混的方式制备了不同短碳纤维含量增强含二氮杂萘酮聚芳醚酮(PPEK)基复合材料,对复合材料的加工性能、力学性能、摩擦性能、耐热性进行了研究。结果表明:短碳纤维增强复合材料均可以注塑成型;短碳纤维对PPEK的增强作用明显,拉伸强度和弯曲强度均有大幅提高;复合材料中短碳纤维起到了明显的自润滑作用,复合材料的摩擦系数和磨损率均随碳纤维含量的增加而明显降低;短碳纤维的加入进一步提高了复合材料的耐热性。  相似文献   
980.
电沉积太阳电池用Cu(In,Ga)Se2薄膜   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
在Mo基底上,采用恒电位法从含有CuCl2、InCl3、GaCl3、H2SeO3、柠檬酸的水溶液中电沉积制备Cu(In,Ga)Se2薄膜,用HCl调节pH值为2.5,并对沉积薄膜400℃左右Ar气氛中退火20min。对退火前后的膜进行X射线衍射,扫描电镜和能谱分析仪分析,结果表明,电沉积制备的Cu(In,Ga)Se2薄膜为黄铜矿结构,退火后,共沉积薄膜的结晶度提高,晶粒尺寸增加,Se含量减少。  相似文献   
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