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442.
本文报导了在麦克唐纳·道格拉斯研究试验室(MDRL)的高冲击压力试验设备(HIP)上,以及在空军赖特航空试验室(AFWAL)的再入端头帽试验设备(RENT)上,所得到的再入飞行器(RV)端头帽烧蚀数据间相关关系的一份研究成果。这份研究成果,只限于产生紊流、稳态后退率的环境条件下所试验的特定的碳-碳端头帽材料。所报导的相关公式是根据收集的文献资料和补充试验所得到的56个数据点求得的。研究了诸如模型的尺寸和几何形状,材料的可变参数(化学气相沉积 CVD、体积密度、开孔率、层间距)、设备上喷管的出口直径、马赫数、平均焓值和中心线焓值以及驻点压力等参数的影响。两种电弧加热器使用同一喷管出口直径、模型直径、中心线焓值和模型的驻点压力,所得到的端头帽后退率相关式误差在±7%。 相似文献
443.
444.
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离子镀是应用于膜沉积工艺的一个常用术语。在该工艺中,基材表面和/或沉积膜受到高能粒子流的作用,足以导致在界面区域或膜与未经轰击沉积情况相比诸多性质的改变。离子镀正是取代溅射沉积、真空蒸发和电镀的一种涂层新工艺。为了对各种沉积技术恰当地选用,有必要了解有关离子镀的基本机理。该文评述了当采用离子镀时,低能离子轰击对表面、界面的形成以及膜的生长的影响。离子镀的许多问题目前仍不明确,因而希望通过呼吁引起对这些问题的重视,科研工作者和工艺学家们能把较多的精力投向研究和控制离子镀工艺。 相似文献
446.
为了生产一种具有各种功能的稳定电源,决定采用装有大功率可控硅的电控系统。这些功能包括以下项目:恒流控制、遥控、大电流起弧、电流缓升、电流衰减、氩弧点焊、脉冲电流焊接等等,它同样地意味着进行反馈控制和监控电压和电流,于是,电流及用于各种功能的参考电压信号均能被稳定。平滑可控硅整流器的输出焊接电流以限制纹波电压同样也是非常重要的。电流范围从7 相似文献
447.
本文对应用氮化方法使钛合金表面硬化的可能性进行了研究。文中的固态氮化采用离子氮化法,液态氮化采用在氮气中用激光加热熔化的方法来完成。分别检测了渗层的显微组织、硬度变化曲线、疲劳性能和耐磨性能。结果表明,虽然两种方法都使疲劳性能少许降低,但是显著地改善了耐磨性能。离子氮化法渗层深度可达0.1mm,激光氮化法渗层深度可达0.5mm,最高硬度可达Hv_(0.1)1400。 相似文献
448.
本文给出了复合材料及其结构用X光自动断层分析方法(PBT)进行无损检测的特征分析。列举了主要类型复合材料的X射线照片。 相似文献
449.
450.
钎焊料是实现卫星钛导管安装位置氩气保护高频钎焊的三大技术关键之一。本文简述了用于卫星钛导管钎焊的钎焊料试验研究结果。通过对Ti-Cu-Ni、Ti-Zr-Ni、Ag-Al-Mn和49Ti-49Zr-2Be等钎焊料与纯钛的钎焊工艺性能试验、接头与无水肼介质的相容性试验、接头强度试验等比较,确定了用于卫星钛导管钎焊焊料的化学成分(10-20%铜、14—25%镍、余为钛)和熔化温度(890—920℃)。钛导管接头,用该钎料在氩气保护下进行高频钎焊时,能满足卫星钛导管的各项技术要求,可代替钛锆铍钎焊料用于卫星钛导管的钎焊。 相似文献