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961.
安全是民航的头等大事,如何提高中国民航的安全水平是一个重大课题.介绍了一种近年来兴起的安全评估方法--综合安全评估方法,并就其在空管系统中的应用做了初步探讨.  相似文献   
962.
袁星  陶智  李海旺  谭啸  孙加冕 《航空动力学报》2016,31(11):2628-2634
通过理论分析和实验验证对多层带有微结构的硅硅直接键合技术进行了研究.采用的硅片表面活化处理方法是亲水湿法,采用的键合工艺流程是先将硅片在键合机中进行预键合,再使用退火炉进行高温退火.其中预键合参数对多层键合成功与否起到决定性的作用,为节约实验时间,针对3个主要预键合参数(温度、压力、时间)的选取进行了详细的正交实验分析.使用项目组自制的硅硅键合分析软件对键合片的红外图像进行处理分析,计算键合率.采用实验得到的最佳预键合工艺参数,多层键合的键合率达到了86.6527%.   相似文献   
963.
首先,针对高超声速飞行器(Hypersonic Vehicle,HSV)再入过程中的横侧向机动控制问题,参考BTT控制方式,通过对航迹和姿态角回路的控制,实现了HSV的无侧滑横向机动转弯;其次,针对机动飞行中的不确定控制问题,提出了改进滑模干扰观测器(Improved Sliding Mode Disturbance Observer,ISMDO)来对参数不确定及外界干扰进行估计。在此基础上,提出了基于ISMDO的非线性广义预测控制方法作为HSV的机动飞行控制算法。仿真结果表明,该控制策略对再入横向机动具有良好的控制和干扰抑制能力。  相似文献   
964.
双轴旋转调制技术作为一种惯导系统误差自动补偿技术,在长航时高精度导航领域得到广泛应用。然而,由于惯测单元相对载体的旋转运动,无法直接表征载体真实的航姿信息,需要进行相应的调制解调;影响解调精度的主要是惯测单元测量轴与内环轴、内环轴与外环轴的安装偏差角的标定精度,针对此问题,提出了一种轴系间安装偏差角的标校方法。经验证,该方法具有很高的标定精度,解调所得航姿信息能够准确表征载体的真实航姿,具有很高的工程应用价值。  相似文献   
965.
基于任意传感器排布的叶尖定时信号压缩感知辨识方法   总被引:2,自引:2,他引:0  
基于叶片振动和叶尖计时系统的特点,推导了任意传感器角度分布下叶片振动响应的分布规律,并基于叶尖定时信号频域的稀疏性,探究了压缩感知方法在叶尖定时信号的重构和倍频辨识上的应用。通过同步信号和非同步信号的大量数值实验,分析了包括信号重构误差、传感器数量、旋转周期数、频率分辨率和信噪比等因素对辨识效果的影响,提出了压缩感知重构叶尖定时信号的基本方法和步骤。进一步将压缩感知方法应用于某型号涡扇发动机钛合金宽弦风扇叶片有限元仿真获得的振动响应数据重构,验证了该方法的有效性。结果表明:在加入了叶尖测点位置误差和30 dB随机噪声的前提下,在80%、90%和100%三种转速工况下均清晰辨识出幅值较大的激励倍频。基于任意传感器角度分布的压缩感知方法对叶尖定时信号辨识效果较好。  相似文献   
966.
空间可展开天线的展开平稳性是天线顺利展开的关键。天线的收展比是运载火箭空间配置的重要参考因素。为减小天线展开过程中的振动冲击,提高展开平稳性,降低空间可展天线收展比,梳理了可展开天线桁架机构的常见构型,提出一种剪叉伸缩竖杆式环形桁架机构,并详细介绍了该机构的基本单元及展开方式。对该机构的收展比进行具体分析,结果表明在相同口径和展开高度的情况下该机构的高径比比Astromesh天线桁架机构减小了35%左右。对该机构进行运动学和动力学建模,分析了机构展开平稳性,结果表明在相同大小驱动力作用下该机构的各节点加速度均方根是Astromesh天线桁架机构的30%左右,具有更好的展开平稳性。试制了缩比模型并进行了展开实验及相关参数测试,验证了机构设计的合理性及计算结果的准确性。  相似文献   
967.
在国际空间站生活的航天员们虽然所处空间有限,但是也会有丢失物品的可能,而限于环境的特殊性,丢失的东西虽然跑不远,却很难找回来。有过4次航天飞机飞行经历的航天员汤姆·琼斯说:所有的失物都在航天器的地板下面四处逃窜着。  相似文献   
968.
从消除隐患、策划实施、安全改进、正视安全工作、落实责任以及树立安全思想等八个方面对安全工作落实进行阐述.  相似文献   
969.
介绍了为冲压涡轮测试仪设计的基于机器视觉技术的现场自动化校准软件。通过该软件的开发,避免了因人工读数造成的数据记录异步性带来的方法误差,在现场校准工作完成的同时即可获得校准报告,极大地提高了工作效率。  相似文献   
970.
根据化学气相沉积(CVD)工艺制备SiC陶瓷涂层的工艺特点和典型异形构件的结构特点,建立了异形构件表面化学气相沉积SiC涂层的数学模型。利用该模型,对CVD法在典型异形表面制备SiC涂层进行了数值计算和分析。计算结果显示,带有斜面的构件对CVD SiC沉积过程有显著影响,在反应器大小允许的情况下,构件放置时,斜面与水平面的夹角越小越好,并尽可能将构件长的一面与水平面平行,这样有利于沉积的涂层均匀。此外,对于带有台阶的构件来说,正放的构件表面浓度大于倒放的构件,而浓度梯度则小于倒放的构件。因此,在实际应用中,应尽量使台阶部分放在气流的下游。上述研究结果对CVD工艺制备SiC涂层的优化具有一定的指导意义。  相似文献   
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