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771.
数控机床作为现代制造加工业的"工业母机",是衡量国家制造业的重要标志。随着技术的发展,对机床加工精度的要求越来越高。因此,我国数控机床精度和精度保持性面临着严峻的挑战,如何快速准确测量数控机床的各种误差成为该领域的一个研究热点和重点。首先从测量仪器角度以及测量策略研究角度回顾了数控机床激光干涉测量、激光跟踪测量、空间体积误差测量、球杆仪测量、平面光栅测试、R-Test、标准件测试等主要几何误差综合测量方法,并对热误差、力误差等相关研究做了简要回顾。在此基础上,分析了当前数控机床误差测量面临的主要挑战以及下一步的发展趋势,为国产数控机床误差测量方法与技术发展提供了建议。 相似文献
772.
基于电化学沉积的高深宽比无源MEMS惯性开关的研制 总被引:1,自引:0,他引:1
基于电化学沉积技术在金属基底上制作了一种新型的无源MEMS惯性开关。针对高深宽比、细线宽微电铸用光刻胶模具制作过程中,由于SU-8胶膜严重侧蚀导致的胶膜制作困难、质量低下的问题,进行了紫外光刻试验研究。试验研究了不同曝光剂量和后烘时间对SU-8胶光刻效果的影响,优化了光刻工艺参数。采用降低曝光剂量和延长后烘时间相结合的方法解决了高深宽比、细线宽SU-8胶膜制作困难的问题,制作出高质量的微电铸用光刻胶模具。最后,在上述试验结果基础上制作了一种高深宽比、无源MEMS惯性开关。其外形尺寸为3935μm×3935μm×234μm,其中最细线宽12μm,单层最大深宽比达10∶1,多层最大深宽比达20∶1。 相似文献
773.
774.
CCD星敏感器光学系统设计 总被引:4,自引:1,他引:3
卢欣 《中国空间科学技术》1994,14(4):49-53,68
介绍CCD星敏感器用光学系统设计的参数选择,光学系统的设计光谱范围0.48、0.85μm;焦距为75mm,F/1.44,视场8.5°。该系统为复杂化的Petzval结构形式;以点列图能量集中度和能量重心偏评价光学系统的成像质量。所选用的CCD芯片像元尺寸为23μm×23μm,像元数384×288,全视场内混色光点列图能量重心偏最大值1.6μm,对应于4.39角秒。 相似文献
775.
776.
质量成本方程与经济分析 总被引:3,自引:0,他引:3
分析了传统质量成本分析模型的缺陷,在引进田口玄一质量损失函数的基础上,利用柯布-道格拉斯函数,推导出改进的质量成本曲线方程,利用其对质量成本进行盈亏平衡分析,为企业质量改进的经济分析提供量化的决策依据。 相似文献
777.
778.
779.
通过对基于PDM的集成化设计系统的研究,建立了该系统的功能模型IDEF0图,重点对模块设计和加工过程设计模块进行了详细的描述和分解. 相似文献
780.