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192.
针对相平面喷气控制系统稳定性分析问题,给出了相平面喷气控制器描述函数的数值计算方法,可用于分析相平面喷气控制器设计参数对描述函数频域特性的影响,介绍了用描述函数法分析相平面喷气控制系统闭环稳定性和稳定裕度的方法,通过示例验证了所提出的分析方法在预报和评估闭环系统稳定性及稳定裕度方面的有效性,以及用该方法指导相平面喷气控制器设计的可行性. 相似文献
193.
欠驱动非完整机械系统的鲁棒控制 总被引:3,自引:1,他引:2
讨论了一类不确定欠驱动非完整机械系统的跟踪控制问题。基于所定义的误差方程,提出了新的鲁棒控制器。该控制器不但对系统惯性参数的不确定具有鲁棒性,而且保证了系统的跟踪误差渐近趋于零。数字仿真验证了所提出控制器的有效性。 相似文献
194.
潮湿颗粒电解质电化学机械抛光(Moist particle electrolyte electrochemical mechanical polishing,MPE-ECMP)作为新兴技术,仍存在难以获得高表面质量的问题。为解决该问题,深入研究电解质颗粒与工件的接触特性,采用离散元仿真软件Altair EDEM探究了工件倾斜角、转速对接触数量、接触力的影响规律,并进行MPE-ECMP工艺试验。研究结果表明,倾斜角为30°时,单位时间内电解质颗粒与工件的接触数量最多,且切向力最大,为3.38mN;在90°时,切向力最小,为1.21 mN。随着工件转速增大,单位时间内电解质颗粒与工件的接触数量变少,电解质颗粒与工件接触的法向力、切向力呈增大趋势。当抛光电位(vs. Hg/Hg2SO4)为0.8 V,工件倾斜角为30°,抛光1h,表面粗糙度从Sa433.51 nm降低到Sa22.43 nm,降低了94.8%。结果证明了工件倾斜角、转速的调整可有效提高MPE-ECMP的抛光精度,表面粗糙度的降低是由接触数量... 相似文献
195.
合成射流作用机理及其对共轴射流掺混的影响 总被引:1,自引:1,他引:1
对合成射流流场及其作用下的内、外涵共轴射流流场进行了二维非定常数值模拟, 研究了合成射流流场和共轴射流流场情况.结果表明,合成射流由一系列对称分布在中心线 2侧的旋涡对组成,频率与激振频率相同,对外场构成一扰动力;涡对自形成后向远处运移 速基本稳定;腔内和腔外涡对的形成及发展变化过程总体保持一致,在每时刻则呈现截然相 反的发展态势;中心线速度的降幅起伏变化分布是由激励器的激振变化引起的,体现了涡量 产生、发展变化的基本特征;合成射流激励器的采用可使共轴射流截面掺混率比未加激励时 得到增加,增强了共轴射流的掺混效果. 相似文献
196.
197.
198.
为弥补现有选址模型仅考虑物流成本的不足,将可靠度的概念引入到备件保障中心选址中,提出基于可靠度的备件保障中心多目标选址模型。首先,结合可靠性的定义给出备件保障中心系统可靠度的概念及量化方法;在此基础上,构建在满足用户随机需求的前提下,总运输路径最短、总成本最小、备件保障中心系统可靠度最大的多目标选址模型;采用可靠度高优先的用户指派原则设计了贪婪启发式求解算法。最后,结合案例分析验证模型的合理性,为备件保障中心选址决策提供理论支持。 相似文献
199.
200.