光学零件的超精密加工技术

叙述了激光核聚变、大型非球面和共形光学零件的超精密加工技术 ;将超精密切削、磨削、计算机数控抛光和连续抛光技术结合起来 ,成功地应用于激光核聚变光学零件的超精密、批量制造 ;分析了研制大型非球面光学零件超精密加工装置应该解决的关键问题 ,并提出了解决方法     

激光陀螺反射镜基片精密抛光技术的研究

本文在实验研究的基础上论述了超光滑反射镜基片的精密抛光技术。通过抛光模、抛光液、抛光压力、抛光速度等对抛光质量影响的研究,提出了获得0.1nm(?)级表面粗糙度,无损伤超光滑光学表面的工艺参数组合。     

大型自由曲面光学器件的超精密抛光方法

旨在提高大尺寸自由曲面光学器件精密抛光技术的精度与效率.通过构建一个机器人抛光中心作为抛光平台,并在包括单位圆域、单位正方形域及自由边界域在内的平面映射域内求解旅行商问题,通过投影计算圆形度数值,进行映射区域的分类,并将所获得的平面轨迹映射到曲面上获得用于大尺寸自由度超精密光学器件的抛光路径.本文算法综合考虑到计算效率...     

大口径光学元件的精密磨抛与检测装备开发及应用

大口径光学元件超精密加工是一个复杂的系统性工程,涉及精密机床、数控、加工技术与工艺、精密检测和补偿控制等机电控各领域的专业知识,其发展与一个国家的高端制造技术及装备发展能力息息相关,也是一个国家综合国力的集中体现。主要介绍了厦门大学微纳米加工与检测联合实验室在大口径光学元件超精密加工技术及装备方面取得的研究进展,针对大口径光学元件磨削和抛光两个加工流程及其配套的精密检测技术,详细阐述了磨削装备及单元技术、可控气囊抛光机床及相关单元技术、精密检测装备及相关单元技术等的研究应用情况。这些技术研究从超精密加工的需求出发,借鉴国内外的研究经验和成果,通过对装备、工艺、检测等各方面整合,形成了具有自主知识产权的集磨削、抛光和检测装备及工艺技术的大口径光学元件超精密加工体系,这些技术与装备确保了大口径光学元件的高质量超精密加工。     

功能陶瓷超精密加工技术

介绍了国内外功能陶瓷超精密加工技术的研究现状及加工方法 ,阐述了超精密抛光技术的原理及影响加工质量的因素 ,指出了功能陶瓷超精密抛光技术的发展趋势。     

抛光沥青的剪切应变规律

研究了沥青在不同组分、温度及剪切力时呈现的3种剪切应变规律：硬脆的玻璃态、柔韧的粘弹态和易于流动的粘流态．根据沥青的剪切应变的特性，一种新型的双层结的沥青抛光模被用于超精密光学抛光。     

基于电磁铁励磁的圆孔磁流变抛光头研究

根据圆孔光学元件的抛光特点，采用有限元仿真分析磁极头厚度、气隙宽度及铁芯宽度等因素对磁场强度的影响规律，设计优化了一种新型高效抛光头，获得磁场强度最大值为H=144520A/m且覆盖宽度l=1.37mm，并对K9光学玻璃进行了抛光试验。试验结果表明：采用电磁铁励磁的磁流变抛光头可以实现光学元件表面的高精度面型加工。     

轮带光学抛光技术与实验研究

针对自由曲面、保形光学零件的抛光需求,研制了轮带光学抛光的工程样机.从理论上分析了轮带抛光的去除函数模型并在实验中提取了轮带抛光的去除函数.通过在K9玻璃和SiC平片上进行环带扫描抛光,检测轮带抛光技术抛光光学材料的加工效果.实验结果表明,轮带抛光具有材料去除效率高,能达到光学表面质量效果且工件无需预抛等特点.     

高速精密激光干涉测量的研究现状及其关键技术

总结了高速精密激光干涉测量的研究现状；分析了影响测量精度和提高测量速度的主要因素及解决问题的关键技术，包括激光稳频技术和光学反馈、精度与测速的制约关系、空气折射率的影响及补偿、电子细分技术、光学非线性误差等     

控制力超精密研抛测控系统

简要介绍超精密抛光技术的发展动态,围绕精密研抛机的现有加工技术水平,开发可实现超精密抛光的控制力系统.     

柏油盘光学抛光表面温度分布规律

本文利用新型高精度温度传感器定量地测量了柏油盘光学抛光表面温度，并对抛光温度随抛光时间、抛光速度和抛光压力的分布变化规律进行了分析和研究。     

研磨与抛光加工技术与应用

精密加工是机械制造行业的重要基础,航空机载设备精密加工具有精度高、难度大、工艺复杂等特点,研磨与抛光技术更是精密加工技术中具有代表性的2种加工方法,将研磨与抛光加工技术根据实际应用进行解析,提出几种研磨抛光加工方法。     

高陡度光学非球面高效制造的探讨

分析了计算机控制光学表面成形法、计算机控制应力盘抛光、磁流变抛光制造光学非球面元件的几项先进技术,探讨了光学元件的高速、高效加工,提出了高陡度光学非球面的固着磨料研磨加工。     

抛光参量对抛光光学元件亚表层的影响

研究了抛光粉的种类、抛光速度的大小以及抛光玻璃的性质等抛光参量对光学元件亚表层特征的影响,并结合抛光机理进行了分析。     

进动气囊抛光工艺参数研究

为了提高光学元件的面形精度,提高加工效率,针对平面光学零件,以抛光去除效率和表面粗糙度为考核指标,对影响进动气囊抛光的几个工艺参数进行了正交试验及分析,得出各工艺参数对抛光去除效率和表面粗糙度的影响规律。确定最佳工艺参数,并在此条件下进行了气囊抛光工艺试验,通过Matlab软件拟合出了气囊抛光去除函数,为开展驻留时间的计算和面形控制提供了依据。     

非球面零件超精密加工技术

介绍了非球面零件超精密切削、超精密磨削、超精密抛光（研磨）、等离子体的CVM、复制等技术的超精密加工方法．     

大径厚比深拱形光学元件高抛变形抑制方法

球面光学零件高速抛光工艺具有生产效率高、面形精度稳定等优势,已经成为光学零件规模化生产必不可少的手段,但部分光学元件具有径厚比大、矢高深等特点,极易发生弯曲或扭转变形,在高转速、高压力条件下进行抛光,受到夹具作用和抛光盘运动等影响,面形精度难以稳定控制,严重制约了抛光效率的提升。针对上述问题,建立大径厚比深拱形光学元件高速抛光动力学模型,进行模态分析,提取影响面形精度的模态特征。在此基础上,采用拓扑优化算法,优化夹具设计,使得加工变形对面形精度的影响大幅度降低。     

利用图像处理技术自动评价超光滑表面的清洁度

讨论了利用计算机图像处理技术对精密抛光基片表面清洁自动评价的可能性、优点及应用前景.     

激光陀螺超高反射镜基片抛光工艺

采用新型双层结构沥青抛光模和两种抛光粉（CeO2和Fe2O3）分步抛光工艺，在合理选择抛光工艺参数的条件下，实现了微晶玻璃激光陀螺反射镜基片的超精密抛光，表面粗糙度达到Ra＜0．5nm、面型精度N＝0．5、△N=0，1．     

进动气囊抛光技术研究

为实现高精度的光学玻璃零件的加工,本文对进动气囊抛光关键技术进行了详细研究.首先介绍了进动气囊抛光设备及原理,通过对Preston方程的分析及工艺参数实验确定了抛光去除函数,并对驻留时间算法进行优化求解,通过MATLAB仿真验证残余误差在0.1 μm以内,最后对平面和球面玻璃进行了抛光实验,获得了面形PV值为0.18μm的球面表面,验证了驻留时间算法的合理性,满足光学玻璃元件精密加工的基本要求,为后续进行自由曲面的抛光提供了理论基础.