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为了计算复杂目标的雷达散射截面(RCS),提出了一种基于AutoCAD几何建模的近场目标电磁散射计算技术,计算了单元体,组成体以及飞机的近场雷达散射截面,理论计算和实测结果较为吻合,为在微机上计算复杂目标近场RCS提供了一种理想的方法。 相似文献
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多反射面天线系统受空间、位置和尺寸等因素的影响,其主反射面口面存在相位差,从而导致天线辐射性能下降,文章提出了一种利用Zernike多项式赋形多个反射面的方法,通过对副反射面赋形,在主反射面口面得到期望的幅度相位分布。该方法利用Zernike拟合来处理反射面间的光程差,并将主反射面作为固定面,根据几何光学法和光程条件,在Matlab中建立副反射镜初始模型,通过遗传算法优化Zernike系数调整光程差,对副反射镜面形进行优化设计,避免了复杂的微分计算。使用Grasp仿真软件对设计的三反射面天线系统进行了分析,计算表明,与未赋形的三反射面天线相比,赋形反射面天线系统主波束效率提升了10.67%,达到95%以上,验证了该赋形方法的可行性及对天线系统性能提升的有效性。 相似文献
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摆臂轮廓测量技术要求将摆臂精准的装调至待检测非球面的最接近参考球面上,需要精确确定非球面的最接近参考球半径及球心位置,而常规的近似法、精确公式法以及最小二乘法不能满足计算的精度和效率等要求。为了弥补现有算法的不足,文章介绍了一种分阶段逼近最接近参考球半径的计算方法,该算法在最小二乘法的基础上,通过精确线搜索技术以及牛顿迭代法,实现了最接近参考球半径求解的高精度、高效率,并且应用于大口径非球面计算时迭代效率有了较大提高。计算实例结果显示,该算法满足摆臂测量时大口径非球面的最接近参考球半径的求解要求。 相似文献
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通过在被测频段上的对横向扫描范围内反向散射场的相参积累,可构成一幅雷达图像。这种相参积累可看作是被测数据与聚焦函数的卷积,聚焦函数仅与测量系统的几何配置有关。因此,通过采用快速傅里叶变换技术(FFT)计算傅氏域的积,就可以有效地重构目标图像。另外,如果室内合成孔径雷达(SAR)测量的几何图形相同,则只须一次性地计算出聚焦算子便可在处理不同数据组时重复使用,从而大大缩短了计算时间。 相似文献
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近场微波成像的实验研究 总被引:1,自引:0,他引:1
本文针对转台模式的近场微波成像进行了实验研究。首先介绍了近场微波成像的实验系统,然后考虑到宽频带天线的非理想特性,提出一种近场微波成像系统的实验修正模型。最后基于该模型,给出了利用理想导体长方柱、理想导体圆柱、理想导体正方体盒以及四尾翼导弹模型的实测数据的重建图像。重建图像基本反映了目标的轮廊。 相似文献
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大型天线近场测量系统 总被引:2,自引:0,他引:2
介绍了我所从以色列引进的大型天线近场测量系统,从微波暗室的建筑结构和配套的辅助实施、大型扫描架和射频仪器设备以及计算机的硬件、软件等方面,介绍了其各个分系统的功能和作用,并列出了系统的主要性能指标。这套设备的引进,对我国的天线近场测量学科是一个极大的促进,对我国航天事业的发展将起到一定的作用。 相似文献
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首先介绍了暗室中主要的误差项,然后通过实际测试的方式,分析了其中四项误差对超低副瓣天线-50dB副瓣的不确定度.结果对超低副瓣天线副瓣的误差分析有一定的参考意义,有助于天线设计师了解超低副瓣天线测试中误差项对副瓣的影响量级. 相似文献
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阵列天线校准是精确控制阵列波束方向和辐射方向图的前提。本文依据测量距离将阵列天线校准方法分为远场校准法和近场校准法两类。随着阵列天线大型化的发展趋势,微波暗室的尺寸越来越难达到阵列天线远场的要求,远场校准法的适用性逐渐减弱,对近场校准法的需求逐渐增加。本文梳理了过往的经典近场校准方法,并对近场校准方法的最新进展进行论述,对不同校准方法的原理做了详细分析和对比,最后给出未来校准研究的发展方向。 相似文献
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针对大扫描角度相控阵天线平面近场测试波束指向偏差大的问题,分析了原因,提出了一种简单可行的利用平面近场精确测试相控阵天线波束指向的方法。 相似文献
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近场测试系统确定电磁干扰源 总被引:1,自引:0,他引:1
近场测试系统是专用于电子设备电磁干扰定性测量的一套测量设备。本文详细论述了近场测试系统的组成、测试方法以及在确定电磁干扰源过程中的具体应用。 相似文献
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文章提出了两种对含变频器天线的近场测试方法,重点关注了射频系统的连接布局,并简要分析了各方案的可行性、优缺点及应用情况。 相似文献
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高分辨率空间红外相机的光学系统具有大口径和大相对孔径的特点,针对某高分辨率红外相机的设计需求,根据三级像差理论计算了同轴三反系统初始结构,设计了传统的同轴三反和同轴偏视场三反系统。通过同轴两反主光学系统和离轴三反后光学系统合理的光焦度分配,设计了组合式五反系统共三种光学系统。设计的系统工作波长8~10μm,焦距7 000mm,相对孔径1…2.29,线视场角±0.58°×0.03°。在综合分析成像性能和光学加工、检测及系统装调等技术的基础上选定组合式五反光学系统为最终方案。五反光路结构尺寸为3 500mm×3 050mm×3 050mm,主镜达到3m级别,考虑到单镜整体加工检验难度,采用18块边长750 mm的正六边形子镜进行合成孔径拼接,子孔径拼接后系统全视场内的调制传递函数大于0.4,系统各项性能满足了技术指标。 相似文献