膜技术用于机载制氧系统的前景展望

从膜制氧系统的特点、机载制氧系统的要求以及膜材料的发展状况等方面探讨了膜技术用于机载制氧系统的广阔前景.     

防溅射靶对离子推力器背溅射沉积污染的影响

针对目前对真空舱背溅射沉积污染的计算模型误差较大的问题,对地面实验中离子推力器的背溅射沉积污染效应开展了研究,提出了更精确的计算模型。由于Reynolds的模型对束流密度在轴向上误差较大,采用改进型的离子束流模型对偏离推力器80 cm位置的真空舱背溅射沉积率做了计算,并与实验结果对比校验,结果吻合较好。用校验过的模型对光舱环境和防溅射靶环境的背溅射沉积效应开展研究,研究结果显示:光舱工况的返流沉积率为2.36×10-10 g/(cm2·s),安装防溅射分子屏的工况在推力器上的背溅射沉积率为2.51×10-11 g/(cm2·s),结果表明添加防溅射分子屏后背溅射沉积污染量可以降低近1个量级。      

拓膜技术在长度测量中的应用研究

针对超声波探伤试块表面裂纹长度、宽度及深度测量中遇到的测量难题．详细介绍用于长度测量的拓膜法胶样制作的标准流程．并对结果进行测量不确定度分析和测量数据验证。     

热膜技术在水流测速中的应用研究

研究了在我国现有条件下，利用普通自来水，在室内和试验水槽中不设调温装置的情况下，热膜技术在水流测速中应用的有关技术问题。并利用从美国ＴＳＩ公司进口的１０５０Ａ恒温型热线／热膜流速仪测量了紊动射流和三峡溢流坝模型冲坑中掺气水流的脉动流速及紊动结构问题，获得了成功。     

电推进羽流粒子束溅射的蒙特卡罗模拟

为了研究电推进羽流对推力器及航天器造成的溅射腐蚀作用,采用蒙特卡罗方法对羽流等离子体对材料的溅射进行模拟,研究了溅射的级联碰撞机理,并开展了Xe离子正入射、斜入射Cu材料的溅射率、溅射产物的能量分布以及空间角分布的研究.结果显示,蒙特卡罗方法对溅射率和能量分布的计算结果与试验结果吻合较好,误差<30％,但是斜入射溅射率...     

霍尔推力器放电室壁面溅射产额研究

霍尔推力器放电室壁面经受低能量(不大于300e V)离子的溅射是影响其寿命的关键因素之一。为了获得放电室壁面材料(BNSi O2)的溅射产额随离子入射角度和能量的变化规律,采用真实霍尔推力器提供275e V的氙离子在真空舱内轰击靶材,利用称重法获得实验参数下的溅射产额。为了克服单纯依靠实验测量耗时耗钱且更低能量的离子溅射实验测量误差会陡然增大的缺点,采用前面实验结果修正了基于蒙特卡罗(MC)方法的SRIM软件溅射产额计算参数,并采用文献实验结果对不同能量下的模拟结果进行验证。在此基础上,用SRIM软件较为详细地考察了入射离子能量低于300e V时入射角度和能量对霍尔推力器放电室壁面材料溅射产额的影响规律。结果表明,溅射产额随离子入射角度先增大后减小,而随入射离子能量则呈现增大的趋势,但当能量小于100e V时,溅射产额逐渐趋于一个非常小的数值。     

自组装单分子膜技术在推进剂中的应用

简要介绍了自组装单分子膜（SAMs）技术，研究了该技术在丁羟和聚醚推进剂中铝粉表面改性的应用。结果表明：设计合成的DX系列和DZ系列能有效提高推进剂的延伸率，对推进剂的其它性能无不良影响。并就该技术在含能材料中的应用前景作了展望。     

溅射工艺对TiAlN薄膜摩擦学性能的影响

研究利用反应磁控溅射法在高速钢基体上制备TiAlN薄膜材料,采用XRD测试薄膜晶体结构,用UMT显微力学测试仪测试薄膜摩擦系数.在此基础上讨论铝含量、直流偏压及后期处理对薄膜摩擦系数的影响.结果表明,不同铝含量的TiAlN薄膜中都存在面心立方相和六方相,随着铝含量的增高,面心立方相比例逐渐减小,六方相增多.铝的引入使膜层的硬度明显提高.随着Al含量增加,GCr15与TiAlN膜层之间的摩擦系数下降.另外,直流偏压和后期处理亦可显著改善薄膜的抗摩擦性能.     

用物理溅射法在碳纤维表面涂覆SiC

采用物理溅射法在碳纤维表面涂覆ＳｉＣ,研究其工艺参数对涂层厚度及性能的影响。结果表明：该方法可在碳纤维表面得到均匀、连续的ＳｉＣ涂层。当涂层厚度适当时,原纤维的强度不受影响,且工艺具有涂覆温度低,沉积速度快的特点。     

高频振荡器噪声分析

 本文将高频振荡器视为具有深度正反馈噪声放大器。对它分析,给出正弦波信号的谱、等效带宽及相位噪声谱;同时还提出诸如高频振荡器内部产生的随机游走噪声形成机理等新看法。     

溅射沉积高温合金涂层的抗高温氧化行为

本文介绍了在一种高温合金上以磁控溅射方法沉积制备与基体高温合金成分相同的涂层，并对其抗高温氧化行为进行了研究。研究结果表明，涂层的结构为微晶柱状晶，具有这种结构的高温合金涂层能大幅度提高基体合金的抗高温氧化性能，而且在涂层表面形成的氧化物防护膜具有良好的粘附性。     

溅射工艺对有机基底氧化钛薄膜应力的影响

采用常温下靶面进气的直流反应磁控溅射方法在柔性聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)基片上制备氧化钛薄膜,通过正交试验设计沉积工艺条件(溅射功率、Ar:O2、溅射气压和镀膜时间),分析各因素对薄膜应力水平的影响.研究表明,在试验范围内,溅射功率和镀膜时间对薄膜应力值的影响较为显著,而Ar:O2和溅射气压的影响相对较小.     

双离子束溅射技术和局部真空电子束焊接技术

1987年 11月上旬,由兰州物理研究所研制的 DSJ-4型多功能双离子束加工机和直线型局部真空电子束焊接装置,通过了部级技术鉴定,为航天工业在微细加工和局部真空电子束焊接技术方面,提供了先进的工艺手段,做出了贡献。     

风扇试验高频振动故障分析

从理论上分析了高频振动对发动机试验的影响与危害,列举了发动机试验中可能产生高频振动的因素。并以三级风扇试验件叶片损伤故障,阐述了高频振动故障的危害及分析识别和处理方法。     

法国研究表面波高频雷达

多年以来,法国一直在秘密研究一种军用的表面波高频雷达,其工作频率为5-30MHz。预计,2005年左右该雷达将提供给法国海军舰船使用,其探测距离为250-300Km,目前使用常规雷达很难达到这一作用距离。这项研究始于20世纪80年代末,最初由法国国家航空空间研究院(ONERA)和Thales航空防御公司联合开发。当时提出了两种不同的研究方案。第一种方案是一种称为“海上占星术士”的计划,它基于多静态结构雷达,安装在海上舰船的接收天线网络通过表面波接收由一个联合(例如Nostradamus雷达)或者非联合的偏转高频发射机照射的目标逆发射的信号。这种逆向…     

整流叶片的高频熔炼

整流叶片的高频熔炼新艺机械厂杨士清整流叶片０２７３采用Ｃｒ１７Ｎ１２合金精铸，特点是结构较简单、尺寸小、壁薄，型面也不复杂。叶片最大尺寸：长约８０ｍｍ，宽４０ｍｍ。叶片加工后壁厚约２～３ｍｍ。１中频熔炼浇注存在的问题采用中频熔炼浇注的叶片常出现表面和...     

高频平面变压器技术研究

通过对平面变压器损耗分析及其不同绕组结构构造技术研究,采用多层交错换位绕组结构,设计了适用于有源箝位软开关变换器的PSSP结构平面变压器。将研制的平面变压器应用于100W高密度DC/DC模块,经实验验证,该变压器总损耗仅为1.3W,并且与传统的变压器比较,体积减小了46.6%,高度减小了68%。     

溅射-电镀微成型制造柔性热膜传感器阵列

为了实现流场壁面剪应力等动态定点分布测量,提出了一种新的柔性热膜传感器阵列结构,并介绍了其制作工艺.旋涂并升温固化制备聚酰亚胺柔性薄膜衬底,在衬底上溅射沉积金属镍膜,并用剥离工艺成型热敏电阻元件阵列及其引线区底膜.然后在引线区底膜上电镀沉积铜膜,再剥离成型铜引线.通过电镀可以经济快速地获得较厚的引线铜膜,使得引线电阻远...     

高频基片复合材料的研究进展

介绍了电路组装技术对基片的性能要求、性能影响因素及基片设计原则，评述了高频基片复合材料的发展现状，并提出未来研究工作的重点。