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碳化硼对碳/碳复合材料的催化石墨化作用 总被引:3,自引:0,他引:3
本文研究了用B4C作催化剂,以降低C/C复合材料的石墨化温度,并比较分析了添加B4C后,对C/C复合材料力学、热物理性能的影响。结果表明,添加B4C后,在比通常石墨化温度低400℃的情况下,石墨化度反而增加了14%,达到了85%。C/C复合材料的抗热震性能也有提高。同时应用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)等分析手段,分析了B4C对C/C复合材料的催化石墨化机理。 相似文献
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高文%冯志海%黎义%姚承照 《宇航材料工艺》2000,30(5):53-57
通过对采用化学气相沉积(CVD)法在碳纤维表面制备SiC涂层、SiC-C共沉积涂层的工艺方法、结构、复合材料电磁参数、复合材料的吸波性能等内容的研究,分析了这两种涂层对碳纤维复合材料微波性能的影响,探讨其涂层改性在防热、隐身双功能复合材料应用中的可能性。 相似文献
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C/C复合材料防氧化复合涂层的制备及其性能 总被引:12,自引:1,他引:12
提出并制备一种C/C复合材料防氧化复合涂层,其基本结构为TiC粘结层/SiC氧阻挡层/ZrO2-MoSi2外涂层,研究了其制备工艺、组织结构、对各单一涂层的防氧化作用及效果进行了分析,并对其抗氧化性能进行了测试。通过比较四种成分组成的抗氧化陶瓷外层的抗氧化性能,结果表明:随着外涂层中MoSi2含量的增多,复合涂层的抗氧化性能增强,其中带有TiC/SiC/MoSi2涂层的C/C复合材料试样在1300 相似文献
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介绍了航空航天用碳碳复合材料(C/C)抗氧化涂层研究的发展和现状,指出提高SiC涂层系统抗氧化能力的根本途径在于选择合适的玻璃密封剂来覆盖和封闭SiC上的微裂纹。最新研究结果表明,使用射频磁控溅射工艺能够在C/C上得到均匀的铱涂覆层,且在高温环境中仍能保持稳定。此外发现,铱和C/C复合材料间不发生界面反应。 相似文献
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航空航天用碳碳复合材料抗氧化涂层的研究现状 总被引:1,自引:0,他引:1
介绍了航空航天用碳碳复合材料(C/C)抗氧化涂层研究的发展和现状,指出提高SiC涂层系统抗氧化能力的根本途径在于选择合适的玻璃密封剂来覆盖和封闭剂SiC上的微裂纹。最新研究结果表明,使用射频磁控溅射工艺能够在C/C上得到均匀的铱涂覆盖层,且在高温环境中仍能保持稳定。此外发现,铱和C/C复合材料间不发生界面反应。 相似文献
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晶须和短纤维增强铝合金复合材料的切削加工 总被引:1,自引:0,他引:1
本文综述了SiCw/6061,Al2O3/6061复合材料的切削加工特点及由车削试验得出的不同刀具的材料,切削速度Vc,进给量f,切削路程lm及复合材料中纤维(晶须)含有率Vf,不同的制取方法对刀具磨损VB,切削力F及表面粗糙度RZ的影响规律。 相似文献
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以甲基三氯硅烷、二氯二甲基硅烷、二氯二茂锆以及金属钠为原料,通过一锅反应合成出一种全新的SiC-ZrC复相陶瓷前驱体(HBZS)。利用TG、FTIR、XRD及SEM等对HBZS的热解行为、分子结构以及热解产物的微观形貌与结构进行了全面分析。结果表明:HBZS在900℃时可以完全裂解转化成SiC-ZrC复相陶瓷,陶瓷收率可达60%以上;裂解产物中ZrC相晶粒尺寸极小(10~45 nm)且均匀分散于连续的SiC相中。该前驱体可用于制备SiC-ZrC陶瓷纤维及陶瓷基复合材料。 相似文献
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郝寅雷%赵文兴%翁志成 《宇航材料工艺》2001,31(4):11-14,53
对几种常用反射镜材料的物理性能和工艺性能进行了比较,研究了碳化硅轻质反射镜的制作工艺,结果认为:反应烧结是实现这种材料作为反射镜材料的巨大潜力的最有效的工艺,可以实现形状复杂产品的近净尺寸成型,样品在烧结过程中无收缩;样品处理时间短;无需特殊设备,在烧结过程中无需加压,样品尺寸原则上仅受烧结炉大小的限制,帛品近乎安全致密。这项研究的突破,主要依赖于反射镜成型方法及反射镜面光学加工的研究进展。最后简述了美国和俄罗斯在这方面的研究进展。 相似文献
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聚碳硅烷PC—P是制备力学性能优异的低电阻率碳化硅纤维的先驱体。利用IR、TG、凝胶含量分析等手段研究了聚碳硅烷PC—P不熔化纤维的热解过程。研究表明,聚碳硅烷PC—P不熔化纤维高温热解过程与PCS不熔化纤维类似,但在300℃左右存在明显的自交联现象,使PC—P不熔化纤维的凝胶含量迅速增加,这是PC—P纤维在不熔化程度较低情况下能够通过高温烧成的原因。 相似文献
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本文讨论了以零价铁代替亚铁盐形成类芬顿反应(Fenton-Kind process)体系应用于碳化硅光学材料抛光过程中的反应机理,通过双转子研抛机床对SiC光学材料进行了研抛实验,验证了类芬顿反应能够有效地提高SiC材料的加工效率和加工质量。通过对比不同磨料粒度研抛液加工结果,获得了SiC材料研抛过程中化学与机械作用规律。 相似文献
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X.Y. Xu W.J. Liu M.L. Zhong H.Q.Sun X.Y. Xu R. Z. Ba 《航空制造技术》2004,(Z1):79-81
采用同轴送粉方法,激光熔覆制备了WC增强Ni3Al金属间化合物基复合涂层,通过试验,优化了工艺参数,对激光熔覆涂层的成分、组织和硬度进行了测试和分析.结果表明,激光熔覆涂层无裂纹和气孔,与基体形成良好的冶金结合,WC颗粒的添加显著提高了涂层硬度. 相似文献
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LU Wan-bing YU Wei WU Li-ping CUI Shuang-kui FU Guang-sheng 《中国航空学报》2006,19(B12):96-101
Hydrogenated nanocrystalline silicon carbide (SIC) thin films were deposited on the single-crystal silicon substrate using the helicon wave plasma enhanced chemical vapor deposition (HW-PECVD) technique. The influences of magnetic field and hydrogen dilution ratio on the structures of SiC thin film were investigated with the atomic force microscopy (AFM), the Fourier transform infrared absorption (FTIR) and the transmission electron microscopy (TEM). The results indicate that the high plasma activity of the helicon wave mode proves to be a key factor to grow crystalline SiC thin films at a relative low substrate temperature. Also, the decrease in the grain sizes from the level of microcrystalline to that of nanocrystalline can be achieved by increasing the hydrogen dilution ratios. Transmission electron microscopy measurements reveal that the size of most nanocrystals in the film deposited under the higher hydrogen dilution ratios is smaller than the doubled Bohr radius of 3C-SiC (approximately 5.4 nm), and the light emission measurements also show a strong blue photoluminescence at the room temperature, which is considered to be caused by the quantum confinement effect of small-sized SiC nanocrystals. 相似文献