蓝宝石基片干式化学机械抛光的研究

针对蓝宝石传统湿式游离磨粒抛光材料去除率低的问题,本文提出了基于蓝宝石与SiO2磨料固相反应的干式化学机械抛光。通过实验分析了蓝宝石干式抛光工艺参数对抛光结果的影响。在此基础上,采用较优加工参数对蓝宝石基片工件进行了抛光实验。结果表明,采用聚氨酯抛光垫、粒径为200nmSiO2磨料,转速50r/min和压力33.2kPa时,粗抛光后的蓝宝石基片Ra为6.0nm,去除速度为5.3mg/h,是相同条件下湿式抛光去除速度(2.4mg/h)的2倍以上。     

脆硬材料光滑表面的波纹度及其产生机制初探

分析了通过不同方法加工获得的表同的波纹度,初步探索了波纹度产生的原因,并提出了减小抛光中波纹度的方案。     

基于CMP的微晶玻璃小孔抛光技术研究

在自制的化学机械复合抛光装置上,研究了微晶玻璃小孔的高精度化学机械抛光技术,利用触针式轮廓仪对小孔抛光表面进行测量,讨论抛光浆料、主轴转速对表面粗糙度的影响。研究结果表明,采用化学机械复合抛光技术可使微晶玻璃的小孔具有更好的表面质量。     

光学基片表面软质抛光胶体粒子的激光清洗

介绍了光学基片表面软质抛光胶体粒子激光清洗的基本方法、原理和实验装置,并通过对含有污染微粒的基片表面进行激光清洗,获得了高洁净表面的光学基片.     

激光陀螺反射镜基片精密抛光技术的研究

本文在实验研究的基础上论述了超光滑反射镜基片的精密抛光技术。通过抛光模、抛光液、抛光压力、抛光速度等对抛光质量影响的研究,提出了获得0.1nm(?)级表面粗糙度,无损伤超光滑光学表面的工艺参数组合。     

一种新型古典抛光工艺的技术研究

对抛光模的制作、抛光粉的添加、加压的方式以及抛光后的清洗这一整套生产流程中所涉及的核心技术进行了部分改进和详细介绍,并最终给出了古典法抛光后的玻璃表面利用AFM检测后的表面形貌图,表面的粗糙度、划痕等微观缺陷明显改善。     

利用图像处理技术自动评价超光滑表面的清洁度

讨论了利用计算机图像处理技术对精密抛光基片表面清洁自动评价的可能性、优点及应用前景.     

面向叶片型面的五轴联动柔性数控砂带抛光技术

针对叶片型面抛光,在分析五轴联动数控砂带抛光可行性的基础上,设计并开发了五轴联动柔性数控砂带抛光机。提出了接触轮与叶片型面有效贴合的概念,并通过改善抛光工具、采用柔性抛光技术和控制抛光轴矢量来实现砂带与叶片型面的有效贴合。抛光轴矢量由抛光位点处法矢和接触轮进给矢量计算获得,既实现了砂带与叶片型面的有效贴合,而且满足抛光轮接触压力方向与柔性机构收缩方向基本一致的要求。抛光轨迹规划采用等参数线法,抛光行距根据抛光带宽确定。最后进行抛光实验,结果为精抛后粗糙度达到0.25~0.39μm,抛光前后叶型轮廓度变化0.007mm,抛光去除量在0.010~0.016mm之间,满足图纸要求。通过实验表明,五轴联动数控砂带抛光叶片型面可行,采用本文所述技术能够满足叶片型面抛光要求。     

航空发动机叶片前后缘自由式砂带抛光技术

由于叶片前后缘(LTE)的轮廓形状和表面质量将对航空发动机的气动性能和叶片的疲劳性能产生直接影响,因此为提高前后缘的轮廓度和表面质量,通过对目前航空发动机叶片前后缘抛光所存在的问题进行分析,结合叶片前后缘抛光工艺要求,并基于自由式砂带抛光的工艺特点,提出了叶片前后缘自由式砂带抛光工艺方法;针对该抛光工艺方法,建立其砂带张紧力控制系统,确定了抛光加工中的砂带走刀步长计算公式及抛光轨迹规划方法;最后以某型号叶片的前后缘作为加工对象进行抛光实验研究。检测结果显示:叶片前后缘轮廓度误差小于0.01mm,其表面粗糙度小于0.4μm,证实了该抛光工艺方法对提高叶片前后缘的轮廓度和表面质量的有效性。     

激光陀螺超高反射镜基片抛光工艺

采用新型双层结构沥青抛光模和两种抛光粉（CeO2和Fe2O3）分步抛光工艺，在合理选择抛光工艺参数的条件下，实现了微晶玻璃激光陀螺反射镜基片的超精密抛光，表面粗糙度达到Ra＜0．5nm、面型精度N＝0．5、△N=0，1．     

整体叶盘弹性磨具抛光轨迹关键规划方法

为使得弹性磨具(砂布轮)在抛光中和叶片型面有效切合,提高抛光质量和抛光效率,研究了弹性磨具抛光轨迹规划方法,给出了抛光行距、抛光步长、刀轴矢量的计算方法。该抛光轨迹规划方法使得柔性主轴机构在抛光过程中保持合理的位姿,确保弹性磨具不仅与叶片型面有效贴合,而且使得弹性磨具抛光力方向与抛光点位法矢方向基本一致。试验结果表明:抛光后叶片表面粗糙度小于0.4μm,叶型轮廓度在公差范围内,能够满足整体叶盘叶片型面抛光要求。     

具有误差修正功能的叶片变预压量抛光技术

针对目前部分叶片铣削后具有较大轮廓度误差以及微小进排气边,采用力控抛光方法难以达到预定要求的状况,提出了一种利用柔性金刚石抛光轮的变预压量误差修正抛光方法。首先,利用在机快速测量装置测量获取叶片待加工余量情况,然后通过分析测量数据确定叶片抛光轨迹和抛光预压量,从而达到对抛光去除量大小的控制,实现叶片型面自适应抛光的结果。最后,利用常规3轴机床对某型号叶片进行了包含叶根过渡圆弧的全型面抛光试验,试验结果表明,用该方法抛光后,叶片型面轮廓度由抛光前的0.02~0.12mm改变为–0.04~–0.005mm,余量稳定控制到了公差带内。与传统的方法相比,采用高精度超硬磨料复杂母线弹性抛光轮可以实现叶片非均匀去量,有效地改善了叶片型面轮廓度。该技术可以广泛用于中小叶片的低成本高精度抛光加工。     

用光探测器测量激光陀螺反射镜的前后向散射——研究表面粗糙及波度对散射的影响

研究了激光陀螺反射镜基片表面粗糙度和波度前、后向散射的测量计算及其对散射的影响。研究结果表明:在同样的精度下,表面粗糙度比波度对散射的影响更大.因此.提高表面粗糙度的精度是降低激光陀螺反射镜或其它超高反射率镜面散射损耗的主要途径。     

高速风动打磨工具

许多零件、模胎经机械加工后,还要进行表面打磨、抛光——大多先用手工锉修或刮削,然后再用砂布抛光。为了解决工效低、劳动强度大的问题,我们研制了一种高速快装的风动打磨工具。经过试用与改进,现已普遍用于生产。提高工效1～5倍,尤其在大面积抛光中效果更为明显,抛光后的表面光洁度可达▽6～▽7。     

苏联采用振动抛光法使碳化钛刀具获得最佳刃口圆角

众所周知,碳化物刀具的寿命取决于刃口圆角半径的选择。苏联工厂经过试验发现,采用振动抛光法可使不含钨的机夹嵌入式碳化钛刀片获得最佳刃口圆角。抛光用的磨料包括砂轮碎片、瓷料和氧化物陶瓷块等,尺寸皆为10～20毫米。被抛光的刀具,与磨料混同填装约占10％所用振动频率为50赫兹,振幅0.3毫米。抛光前,刀片的刃口圆角半径为20微米,表面粗糙度(Ra)为0.125～0.160微米。抛光后,刃口圆角半径变为40微米,表面粗糙度达到0.100～0.080微米。用抛光后的刀片     

雷达吸波材料表面波抑制性能测试技术

分析了雷达吸波材料对表面波抑制性能的作用机理并设计测试系统来测试材料对表面波的抑制性能。在X波段(8~12 GHz)利用喇叭天线发射电磁波,以掠入射角度投射到金属板上形成表面波,覆盖于金属板上的聚四氟乙烯将反射的电磁波束缚在介质中并沿金属板向前传播。利用电场探针来检测接收到的电磁能量,对比放置吸波材料前后的结果,以此来评估吸波材料对表面波的抑制性能。并对两种吸波材料进行测试,取得了良好的效果,说明了该测试方法的可行性和有效性。     

整体叶盘叶片自动化抛光颤振抑制技术

基于研制的自动化抛光系统,针对整体叶盘叶片抛光加工的颤振问题,分析了颤振后叶片表面的几何形貌。结合整体叶盘叶片自动化抛光系统,阐述了抛光颤振机理。基于颤振机理确定了编程技术优化、抛光参数优化、提高系统刚性等3种抛光颤振抑制技术,获得了优化后的刀轴方向、抛光轨迹、抛光参数及工艺填充方法。经试验验证,颤振现象,叶片波纹度、平均误差、表面粗糙度等减小,表面质量得到较大提升,颤振痕迹明显消除。     

铝合金简体薄壁件内孔圆柱度的校正

在铝合金简体薄壁工件的机械加工中,时常出现工件的内、外圆形状误差过大的现象。图中所示为我厂加工的某型航空产品零件(材料:LD7)。由于内孔表面需经硬质阳极化后抛光,为防止抛光时将硬质阳极化层磨掉,内孔的圆柱度须严格控制。但在加工时,出现内孔圆柱度超差率达30％左右,报废率达3％～5％。对此我们进行了认真地分析,改进了加工工艺,使效率和质量都有很大提高,经济效益非常显著。     

100～500mm外径千分尺平面度、平行度的修理方法改进探讨

对传统100～500mm外径千分尺平面度、平行度修理方法进行了改进，提高了该千分尺的平面度、平行度修理效率及合格率。     

基片摆动对磁控溅射膜厚均匀性的影响研究

研究了基片摆动和基片自转的磁控溅射系统中基片摆动角振幅和基片自转角速度对磁控溅射膜厚均匀性的影响。在理论分析的基础上,进行了铜膜溅射实验,实验结果和理论分析符合,在摆动角振幅为π/3弧度,自转角速度为π弧度/秒的条件下,于4英寸硅基片上得到了±5.6%的膜厚均匀性。