纳米台阶高度标准样块的研制与评价

介绍了纳米台阶高度标准样块的用途及国内研制样块的情况,设计了纳米台阶高度样块的结构和制作工艺流程,制作了高度20nm~100nm的样块。以20nm、50nm、100nm为例对样块的台阶高度、台阶上下表面平行度、台阶测量区域的粗糙度、均匀性、稳定性进行了考核。结果表明,研制的样块台阶高度与设计值基本一致,稳定性好,与美国VLSI公司的相同高度的台阶高度标准样块相比,本文制作样块的平行度、粗糙度、均匀性与VLSI样块评价测量结果一致。     

基于二氧化硅的微米级线距样片制备

设计了微米级线距样片的图形结构和制作工艺流程,制作了周期尺寸为(1～10)μm的线距样片。以周期尺寸为1μm和10μm的样片为例对样片的直线度、均匀性和稳定性等质量参数进行了考核。结果表明,研制的线距样片尺寸与设计值基本一致,稳定性好,与美国VLSI公司的标准样片进行了结果对比,本文研制的线距样片与VLSI的标准样片质量相当。     

《化学分析计量））2011年第1期目次

诺龙甲醇溶液标准物质的研制 偏二甲肼渗透管标准物质的制备及其均匀性稳定性研究 恒电流电解-BCO分光光度法测定纯铜中铜含量不确定度评定     

液质校准用利血平/甲醇水标准溶液的研制

研制了液相色谱-质谱（LC-MS）校准用利血平/甲醇水溶液标准物质。采用准确可靠的方法对利血平粉末纯度进行定值,用已确定值的利血平为溶质,甲醇水为溶剂,用重量-容量法制得利血平/甲醇水溶液。分别用F检验和回归曲线法对均匀性和稳定性进行考察,对定值结果的不确定度进行了评定。结果表明研制的利血平/甲醇水溶液标准物质具有良好的均匀性和稳定性,标准相对扩展不确定度为3%（k=2）。     

近红外绝对光谱响应度传递标准的研制CSCD

在光辐射计量中,陷阱探测技术是一种重要的探测技术,陷阱探测器是光辐射功率基准量值保持和传递的主要媒介。 InGaAs 陷阱探测器常被作为（900～1700）nm 波段光辐射计量的传递标准。本文基于陷阱探测技术,针对近红外波段量值传递的需求,研制了 InGaAs 陷阱探测器,并进行了性能测试。测试结果显示：在1064nm处绝对光谱响应率为0.7098A/ W,测量不确定度达到0.1%,在（0.1～3） mW 内,其非线性指标优于0.99993,1h 测试非稳定性为0.00495%,空间非均匀性达到0.05%,满足作为传递标准的技术要求。     

基于电子束蒸发沉积的曲面纳米薄膜均匀性研究

半球谐振子金属化是半球谐振陀螺研制过程中的重要环节，针对半球表面薄膜制备均匀性难以实现的问题，提出了一种将薄膜沉积实验和光学模拟相结合的方法。本文采用电子束蒸发技术在半球上沉积Au薄膜，利用台阶仪测量球面上不同位点的薄膜厚度，将平面上的膜厚等效为半球曲面上的膜厚，研究球面薄膜的均匀性，得出了在半球内外表面上薄膜的膜厚分布；同时对薄膜沉积均匀性进行光学模拟，将半球探测器上辐照度等效为实验中沉积所得到的薄膜厚度，计算得出的半球探测器上辐照度分布与实验测量结果一致性较好，可为半球谐振子纳米薄膜的均匀性制备提供理论基础。     

多波段光谱辐亮度计量值溯源技术研究

光谱辐亮度计是实现空间遥感仪器在地面实验室内进行高精度光谱定标的关键设备之一，本文基于标准探测器的辐亮度传递原理，利用视场光阑、孔径光阑、窄带滤光片和光电二极管研制了10测量通道的遮光筒式多波段光谱辐亮度计，测量波长分布在（400~1 100）nm范围。具有校准通道，与积分球单色光源匹配使用，实现光谱辐亮度的量值溯源，测量不确定度优于2.2%。     

光纤光栅解调仪校准方法研究

介绍了光纤光栅传感解调系统的工作原理、结构和应用,提出设计了一种光纤光栅解调仪校准传递件,传递件以F-P(法布里-珀罗,以下简称F-P)标准具为核心器件,利用LabVIEW开发环境设计编写波长扫描程序,配合以可调谐激光器与光功率计完成测量.所研制的标准传递件的测量不确定度2.4pm(k=2),其波长月稳定性在1.5pm...     

光电跟踪瞄准系统的多光轴平行度校准方法研究CSCD

提出了一种针对光电跟踪瞄准系统特点的多光轴平行度校准方法,其结合了大口径平行光管法与小口径光管法的优点,可适应于不同波段、不同分布的光轴平行度校准要求。基于该校准原理研制了多光轴平行度校准装置,进行了测量试验,验证了该方法的可行性。     

腔式宽光谱高吸收比标准器研制及测试分析

为解决高吸收比极端量值溯源难题，基于腔式吸收器光陷阱作用，研制了吸收比达0.999以上、光谱范围为300～1 100 nm的腔式宽光谱高吸收比标准器并进行了性能测试。设计了圆柱圆锥形、球形和不同直径带螺纹圆柱形等腔式吸收器，使用Fred软件，基于Gouffe法和蒙特卡罗法对吸收率进行模拟，使用铝合金材料制作了内壁分别喷涂航空黑漆和电镀纳米涂层的两套实物，对实物进行了吸收比性能测试，分析研究不同形状和尺寸腔体对吸收率的影响。腔吸收器吸收率测试结果表明，腔口开孔直径为25 mm,内壁涂有吸收率为0.970的航空黑漆或纳米铜的球形腔和圆柱圆锥形腔更高，在300～1 100 nm波段范围平均吸收率达0.999以上。     

光电跟踪仪光轴一致性测量装置

设计了大口径离轴抛物面镜平行光管光学系统,研制了基于CCD图像采集处理的激光光斑中心坐标提取系统,研制了基于光栅尺的位移闭环控制系统,建立了光电跟踪仪光轴一致性参数测量装置。装置可用来测量光电跟踪仪激光发射轴、电视成像系统、红外成像跟踪系统三轴的一致性,测量不确定度为0.02mrad。     

静电场仪校准系统的设计及仿真研究

静电场仪的精确校准对提高卫星在轨电场探测精度、保障卫星安全发射升空、精确预测雷电等具有重要意义。针对电场仪校准的需要,设计了平行极板电容式静态电场仪校准装置。利用三维电磁场仿真软件CST对标准静电场发生装置进行数值仿真,研究了校准箱内部及边缘处的静电场分布特点,分析标准极板直径和间距对边缘效应的影响,结合极板平行度对电场均匀性的影响分析,确定了校准过程中电场仪探头的最佳位置,实现静电场仪校准装置的最优化设计。     

静电场仪校准系统的设计及仿真研究

静电场仪的精确校准对提高卫星在轨电场探测精度、保障卫星安全发射升空、精确预测雷电等具有重要意义。针对电场仪校准的需要,设计了平行极板电容式静态电场仪校准装置。利用三维电磁场仿真软件CST对标准静电场发生装置进行数值仿真,研究了校准箱内部及边缘处的静电场分布特点,分析标准极板直径和间距对边缘效应的影响,结合极板平行度对电场均匀性的影响分析,确定了校准过程中电场仪探头的最佳位置,实现静电场仪校准装置的最优化设计。     

键槽对称度

对于图1工件,在形位公差标准的检测方案中,对它的检测和计算方法有明确规定。例如(图2),工件基准轴线由V形块模拟。被测中心平面由定位块模拟。调整被测件,使定位块上表面沿径向与平板平行。测量定位块上表面至平板的距离,再将被测件旋转180°后重复上述测量。得到该截面上下两对应点的读数差a。则该截面的对称度误差     

测量表面粗糙度参数的反散射计算研究

用光的角散射分布技术测量工件表面的粗糙度参数是近几年来发展起来的新的测量技术。它具有分辨力高、非接触、区域平均和快速测量等优点,可获得多个表面粗糙度参数。采用该技术测量的实验装置角分辨力为0.1°,测量范围为0.6328μm<λ_s(空间平均波长)<40μm,0.0001<△_a(轮廓的算术平均斜率)<0.0088,2nm相似文献   

自动和半自动探针台的载片台水平位移测量方法研究

为解决自动和半自动探针台的载片台水平方向位移发生偏差时,导致探针压点位置不准,从而使测试结果不可靠,甚至伤及芯片和探针的问题。根据实际工艺和溯源机构的标准器具特性,设计了标准尺的图形,在苏打玻璃上电镀5μm宽的金线条,制作成152.4mm×20mm的长方形标准尺,其测量范围为(0~150)mm。对标准尺进行了定标,定标不确定度为1.0μm。在测量范围内,进行了试验分析,评定了测量不确定度。结果表明:标准尺测量的水平位移偏差小于4μm,满足测试需求。     

太阳模拟器光照不均匀性的研究

辐照不均匀性是太阳模拟器的一项主要技术指标.首先通过对国内外辐照不均匀性测量装置进行了充分的调研,决定采用“决门法”设计完成了辐照不均匀性的测量装置.接着通过试验证明了晴空无遮挡的太阳光可以作为该装置的标准光源并进行了该装置的标定.然后,利用该装置对自然光源进行了测试,结果与利用标准表测试一致.最后,利用该装置对脉冲式太阳模拟器的辐照不均匀性进行了现场测试.     

均匀性的瞬态测量

对均匀性的数学描述进行了分析研究,提出了均匀性瞬态测量的概念,总结了三种不均匀度的测量方法,并给出了每种方法的不确定度传递公式.以闪光光强分布的均匀性测量为例,介绍了太阳电池电性能测量光照均匀性瞬态测量系统及其修正方法.     

基于电阻法的工艺液位传感器测量系统及其校准装置的研制

介绍了一种基于电阻法的工艺液位传感器测量系统的设计与实现,该传感器测量系统包括利用液位传感器、点式液位传感器、耗尽关机液位传感器与剩余液位传感器及对应的变送器。设计了相应的半自动校准系统对传感器的精度进行标定,分析了测量结果的不确定度。经过测试,所有传感器各项指标均满足设计要求。该传感器的研制解决了现有容积计量及液压试验系统不能对贮箱各不同部位进行容积和高度监测的问题。     

表面结构的MOTIF参数表征

工程表面结构的粗糙度和波纹度之间一直没有明确的界限,而它们的产生原因及对零件表面性能的影响却是不同的.最近被国际标准所采纳的莫逖夫法(MOTIF)则提供了一种可供选择的分离未滤波轮廓的粗糙度和波度的新方法.对MOTIF法的基本概念、参数和表征方式作了初步的研究,并对几种传统的精加工方式加工的样块表面特征进行了描述.