低温标准锗电阻温度计研制成功

随着我国低温科学事业的发展,我国在研制低温温度计方面又有新的突破,新疆物理研究所研制成功了宽温区标准锗电阻温度计和工程用中低温热敏电阻元件,这不仅为     

工业玻璃铂电阻温度计的简单分度

一前言在测温技术中,利用电阻温度计进行测量具有不少优越性。因为它的灵敏度高,测温范围广,准确性好。利用电阻温度计进行测温的原理是基于:物质的电阻在温度发生变化时也相应改变的性质。实验证明大多数纯金属从0℃加热到100℃其电阻增加40％;即增加1℃时电阻值要增加0.4～0.6％。一般的计量单位和一些实验室为了准确的进行温度测量,大多使用标准铂电阻温度计。     

非晶态NiSiB薄膜电阻的弛豫

用射频溅射制备了一组厚度不同的NiSiB非晶态薄膜.在不同温度下,用不同时间对薄膜进行了循环退火.实验测量了循环退火后的薄膜电阻随温度的变化,得到可逆和不可逆两组曲线.厚度较大(>1 000)的薄膜,电阻随温度的增加而增大,厚度较小(<400)的薄膜,电阻随温度的增加而减小.电阻温度系数有正有负.从非晶态材料的结构弛豫出发,应用激活能谱模型和推广的Ziman理论讨论了实验所得的结果.     

航天飞机环境中高精密度快速读出的低温传感器

介绍一种小型坚实的传感器,在接近1K 时,利用20nW 的电流激励,四线测定锗电阻温度计的电阻,准确度为1×65×10~(-3)。论述对低温和大气系统的限制。给出用微型计算机控制的混合模拟/数字设计。论及测试结果及未来的发展。     

热反射测温系统测温准确度验证方法研究

针对热反射测温系统测温准确度验证结果不准确的问题,提出了一种热反射测温系统测温准确度的验证方法.采用以Si为衬底,利用半导体工艺制备金薄膜电阻,通过制作夹具,键合薄膜电阻与夹具的方式研制出验证电阻件.使用温控平台在30～100℃温度下对其进行温度系数考核,结果表明电阻件的阻值与温度有良好的线性关系.通过热电法计算出电阻...     

一种用于脉动气流的快速响应电阻温度计

一种用于气体瞬时温度测量的电阻温度计已经研制成功。它是由一根直径为４μｍ的钨丝固定在较重的支撑丝上构成的，强度很高，能够承受２．２ＭＰａ压力和３０Ｈｚ频率脉动的氦气流的冲击。探头很小，响应时间约为２６０μＳ。在（８０～４００）Ｋ温度范围内，温度计的输出近似为线性，灵敏度约为０．０２２５Ω／Ｋ。温度计在脉冲管制冷机试验中收到了满意的效果。     

VO2薄膜制备工艺及电阻开关特性研究

用溶胶－凝胶法在非晶玻璃上制备VO2薄膜，经过熔融、涂膜、烘干和热处理等工艺最后得到电阻相变2－3个量级的VO2薄膜。对烘干温度、熔融温度、膜厚和热处理温度对薄膜电阻开关特性的影响进行了研究。通过XRD（X－ray diffraction)和XPS（X－ray photoelectron spectroscopy）对薄膜的结构和价态进行分析，表明用溶胶－凝胶法制图VO2膜工艺简单，重复性好。     

近十年来温度测量的发展概况(续)

3.电阻温度计电阻测温是传统的测温方法,它有较高的精度和灵敏度。近十年来,其主要研究工作有以下几个方面:a.作为标准温度计使用EPT-76实施以后,把国际温标下限     

厚膜铂电阻温度计的研制、生产和应用

研制七十年代初期,英国经济在经历了一段稳定时期后,物价和工资都开始上涨。在此之前,罗斯蒙特公司生产的铂电阻温度计是以细铂丝为原料,通过密集型劳动制成的。出于经济上的考虑,探索制作电阻温度计的新方法以降低原材料和劳动力的成本,在当     

关于辐射测温法的几个问题

本文从辐射测温法理论出发,讨论了名义温度出视在名义温度的概念,强调指出;名义温度的亮温、全辐射温度从理论上讲不可能高于真温;但在环境温度辐射的影响下,温度计的读数——视在名义温度(视在亮温、视在全辐射温度)是可能高于真温的。本文还讨论了有效波长概念和温度计的波段选择。注;本论文曾在“全国第二届气动实验非接触测量学术交流会”上(l984.0杭州)发表,略有删改。     

腐蚀环境下铜薄膜传感器金属结构裂纹监测

铜薄膜传感器在飞机金属结构损伤监测过程中,将长期面临大气腐蚀环境的影响。针对此背景,研究了铜薄膜传感器在腐蚀环境下的耐蚀性能,及腐蚀后的疲劳裂纹监测性能。首先,采用脉冲偏压多弧离子镀技术在不同弧电流和基体负偏压水平下制备了一系列铜薄膜,对其耐蚀性能进行了对比研究。结果表明,在弧电流60 A和基体负偏压250 V时沉积的铜薄膜耐蚀性能最佳。然后,结合耐蚀性能最佳的沉积工艺参数,在2A12-T4铝合金中心孔板试件上制备了同心环状铜薄膜传感器阵列,并开展了盐雾腐蚀试验。最后,对腐蚀试验后的铜薄膜传感器进行了疲劳裂纹监测试验。结果表明:铜薄膜传感器在腐蚀环境下具有良好的耐蚀性能,耐蚀时间达1 000 h;腐蚀试验后的铜薄膜传感器对裂纹变化敏感,能实现对裂纹定量监测,监测精度为1 mm,监测结果具有良好的可重复性。     

基于电子束蒸发沉积的曲面纳米薄膜均匀性研究

半球谐振子金属化是半球谐振陀螺研制过程中的重要环节，针对半球表面薄膜制备均匀性难以实现的问题，提出了一种将薄膜沉积实验和光学模拟相结合的方法。本文采用电子束蒸发技术在半球上沉积Au薄膜，利用台阶仪测量球面上不同位点的薄膜厚度，将平面上的膜厚等效为半球曲面上的膜厚，研究球面薄膜的均匀性，得出了在半球内外表面上薄膜的膜厚分布；同时对薄膜沉积均匀性进行光学模拟，将半球探测器上辐照度等效为实验中沉积所得到的薄膜厚度，计算得出的半球探测器上辐照度分布与实验测量结果一致性较好，可为半球谐振子纳米薄膜的均匀性制备提供理论基础。     

铜互连扩散阻挡层工艺优化

针对金属线间击穿电压小、可靠性差的问题,对铜扩散阻挡层（包括钽阻挡层厚度和氮化硅阻挡层薄膜质量）进行研究优化。使用自对准双重图形（SADP）方法能够使金属互连线的特征尺寸缩小,使得互连线扩散阻挡层的厚度期望降低。通过制备不同厚度的钽阻挡层对金属互连体系电阻和击穿电压做详细对比分析,发现硬质的钽金属对化学机械研磨（CMP）产生影响,导致互连体系电阻和击穿电压随着钽阻挡层厚度减小而增加,过薄的阻挡层会导致阻挡性能降低、整体晶圆均一性变差;铜线界面上存在的氧元素极大地降低了氮化硅的黏附性,影响阻挡层性能。在氨气预处理阶段通入不同流量的氨气,在预沉积阶段改变预沉积时间,增加过渡阶段,通过实验分析氮化硅的黏附性,结果证明:氨气流量的增加、预沉积时间的减少、过渡阶段的增加能提高氮化硅的黏附性,改善了薄膜阻挡能力。      

匀速升降温激励法温度传感器校准技术研究

为了对温度传感器进行便捷、快速、高效的温度校准,介绍了一种新的温度传感器校准技术,基于该校准技术方法设计了校准炉体,利用数值热分析优化了校准炉体的结构,并分析了校准炉体产生的不确定度分量对校准结果的影响。研究结果满足当前温度传感器校准需求。匀速升降温激励法快速校准技术在测量方法上具有新颖性和创新性,这项技术的成熟和实用普及为温度计量提供全新、高效地校准方法和技术途径。     

匀速升降温激励法温度传感器校准技术研究

为了对温度传感器进行便捷、快速、高效的温度校准,介绍了一种新的温度传感器校准技术,基于该校准技术方法设计了校准炉体,利用数值热分析优化了校准炉体的结构,并分析了校准炉体产生的不确定度分量对校准结果的影响。研究结果满足当前温度传感器校准需求。匀速升降温激励法快速校准技术在测量方法上具有新颖性和创新性,这项技术的成熟和实用普及为温度计量提供全新、高效地校准方法和技术途径。     

PECVD法生长纳米硅薄膜的压敏特性

使用常规的ＰＥＣＶＤ（等离子体增强化学汽相沉积）沉积技术成功地制备出具有纳米相结构的硅薄膜，并研究了以玻璃和单晶硅为衬底材料的纳米硅薄膜的压阻特性，测得两种衬底材料制备的样品均有很高的压力灵敏度系数Ｋ，其值可以达到８０，退火后Ｋ值会增加，电阻随压力呈良好的线性关系，但有较大滞后，并对样品的受力情况及测试结果进行了简单的分析。本文对ｎｃ－Ｓｉ：Ｈ薄膜力敏器件的设计和制造将有重要的参考价值。     

组合材料芯片技术应用及Zn-Al合金镀层材料优选

基于组合材料芯片技术原理,通过离子束溅射方法,在低碳钢基片上快速制备了全组份范围的二元Zn-Al薄膜材料样品库,研究了不同热处理条件对薄膜组份互扩散过程的影响.使用XRD及EDS等手段表征薄膜的成分和结构,并采用原子力显微镜和透射电了显微镜观察形貌;使用纳米压痕仪测试材料芯片样品的压痕硬度和弹性模量;使用电化学方法测试平衡电位和极化电阻.在获得薄膜材料样品组成-结构-性能(力学性能和耐腐蚀性能)关联特性的基础上,对具有良好力学性能和耐腐蚀性能的二元Zn-A1合金镀层材料提出了成分设计和优化方案,即选择兼具良好力学性能和耐蚀性能的Al-Zn镀层材料,成分配比应控制为约30at%Zn含量.     

溅射薄膜热电偶在非金属结构表面瞬态温度测量中的应用研究

介绍了利用薄膜成型技术,在非金属试验件表面用真空离子溅射技术制作薄膜热电偶,进行表面温度测量,并探讨薄膜热电偶在瞬态加热条件下与粘贴的常规热电偶在测温结果上的区别,为今后将薄膜制作技术应用于温度、热流密度及高温应变测量打下基础。     

原子层沉积纳米钝化层薄膜厚度测量技术研究

原子层沉积无机纳米薄膜技术广泛应用于军民领域。本文通过在原子层沉积系统加装原位石英晶体微天平测量系统，通过原位石英晶体微天平研究原子层沉积无机薄膜生长过程并进行薄膜厚度的在线测量。通过研究原子层沉积反应条件，实现原子层沉积无机薄膜厚度的石英晶体微天平在线测量结果替代薄膜厚度线下光学测量结果，解决各类复杂腔体内壁原子层沉积薄膜厚度无法精确测量的问题。     

高性能纳米复合薄膜制备及其非线性光学性质研究

介孔薄膜是介孔材料中的一种重要材料形式.根据介孔基纳米复合薄膜制备科学及非线性光学性能研究现状,基于相似相容原理、离子交换、无电沉积、电沉积、沉积-沉淀等新方法设计在介孔薄膜中实现金属与半导体纳米粒子高效及高分散性组装的系列结果,重点分析了合成纳米复合薄膜材料的非线性光学性质,研究了外场环境,特别是强磁场条件下的热处理过程对纳米金负载介孔基纳米复合薄膜结构与非线性光学性质的影响.