溅射工艺对有机基底氧化钛薄膜应力的影响

采用常温下靶面进气的直流反应磁控溅射方法在柔性聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)基片上制备氧化钛薄膜,通过正交试验设计沉积工艺条件(溅射功率、Ar:O2、溅射气压和镀膜时间),分析各因素对薄膜应力水平的影响.研究表明,在试验范围内,溅射功率和镀膜时间对薄膜应力值的影响较为显著,而Ar:O2和溅射气压的影响相对较小.     

沉积参数对磁控溅射镀金膜膜层残余应力与微观形貌的影响

残余应力直接影响镀膜膜层的稳定性与可靠性。为减小薄膜的残余应力,提高镀膜膜层的可靠性,在不同溅射气压、不同镀膜温度条件下,在熔融石英基底上进行了直流磁控溅射镀金膜试验。通过基片曲率法得到薄膜的残余应力,采用激光平面干涉仪对基片的形变进行测试,对不同工艺参数下膜层的残余应力进行分析,并采用扫描电镜对膜层的表面形貌进行测试。通过试验可知,磁控溅射镀膜膜层的残余应力随镀膜温度的升高而升高,在一定工作气压范围内（0.2Pa~0.6Pa)随溅射气压的增加而降低。电镜测试结果表明,常温镀膜晶粒的尺寸约为30nm,180℃镀膜晶粒的尺寸增长至近100nm。镀膜温度越高,薄膜的微观结构越致密。     

高频溅射制膜技术

高频溅射技术原理是在真空中充以惰性气体氩 ,在高压电场的作用下 ,氩气电离使阴极与阳极间产生辉光放电 ,经磁场作用增强等离子体并被电场加速成高能离子流 ,撞击到阴极靶材上 ,使靶材逐渐地、缓慢地“溃散” ,以原子或原子团甚至以剩余气体分子、化学结合物形成脱离靶材 ,淀积到衬底上 ,形成薄膜 ,这个过程称为“溅射”。又因使用射频电源 ,故称“高频溅射”。利用高频溅射技术能制取多种金属薄膜、半导体薄膜、化合物薄膜和合金薄膜等。本成果研制的高频溅射仪器具有以下特点 :(1)溅射室中有三个水冷阴极靶 ,可在一次真空条件下 ,制成不…     

基片摆动对磁控溅射膜厚均匀性的影响研究

研究了基片摆动和基片自转的磁控溅射系统中基片摆动角振幅和基片自转角速度对磁控溅射膜厚均匀性的影响。在理论分析的基础上,进行了铜膜溅射实验,实验结果和理论分析符合,在摆动角振幅为π/3弧度,自转角速度为π弧度/秒的条件下,于4英寸硅基片上得到了±5.6%的膜厚均匀性。     

磁控溅射沉积工艺条件对薄膜厚度均匀性的影响

薄膜厚度均匀性是衡量薄膜质量和镀膜装置性能的一项重要指标.在自行设计的磁控溅射沉积设备上,对薄膜沉积工艺中靶基间距、溅射功率、工作气压对膜厚均匀性的影响进行了研究,由连续光谱椭圆偏光仪SE800测量薄膜厚度.结果表明:靶基间距较大的情况下,薄膜均匀性明显改善;溅射功率和工作气压对薄膜均匀性也有较大的影响.     

科技信息

1 多功能高频磁控溅射技术 由上海航天局804所研制生产的JG-PF3B-I～Ⅵ型三靶式多功能高频磁控溅射仪,是一种能够进行溅射沉积、溅射腐蚀和具有各种溅射(偏压、加热、反应、磁控等)功能的新型薄膜溅射设备,适于各院校的科研机构和有关工厂进行科学试验和微型器件的小批量生产。其特点如下:     

有机玻璃基底AZO/Ag/AZO复合薄膜的制备与性能

采用低温磁控溅射技术在有机玻璃（聚甲基丙烯酸甲酯PMMA）表面制备铝掺杂氧化锌（AZO）叠层AZO/Ag/AZO透明导电薄膜，研究AZO溅射功率对AZO/Ag/AZO薄膜结构和性能的影响，探讨PMMA层合结构的耐湿热性和加温性能。通过扫描电子显微镜（SEM）、原子力显微镜（AFM）、X射线衍射仪（XRD）表征薄膜的形貌和结构。结果表明：AZO的溅射功率影响了AZO层表面能以及薄膜的结晶度，在100 W和150 W溅射功率下制备出的AZO/Ag/AZO薄膜室温下具有3.7Ω/sq的低薄膜电阻和86.1%的高透光率，采用PMMA和聚氨酯胶片对薄膜进行层合封装，湿热30天后仍保持光学、电学性能稳定。PMMA层合结构在加温过程中的时间-温度曲线表明在5 V直流电压下层合玻璃具有较快的温度响应时间和良好的温度均匀性。-10～-40℃空气对流中PMMA层合结构表现出良好的温度稳定性。     

离子镀工艺和应用简介

离子镀是在真空蒸镀和溅射镀膜基础上发展起来的一项新技术,它的基本原理是:在真空室内,在欲镀材料的加热热源和工件之间形成一个高压电场,并发生辉光放电,低压惰性气体(如氩气)在放电区离化,高速轰击工件     

电场均匀化对 2091Al-Li 合金的显微组织及力学性能的影响

 应用扫描电镜（SEM）及电子探针（EPMA）研究了强电场作用下Al-Li合金的均匀化过程。实验结果表明，强电场加速了2091Al-Li合金的均匀化过程，但是随着电场作用时间的增加，发生了镁、铜原子的上坡扩散，导致镁、铜原子的非平衡偏聚。因此，电场及非电场的联合处理方法是一个有效的均匀化处理制度。同时，还研究了强电场均匀化对显微组织及力学性能的影响，发现强电场均匀化促进T1相的形核，抑制δ‘和S’相析出，提高了Al-Li合金的屈强比。     

TiNi基形状记忆合金薄膜的相变特征研究

利用磁控溅射的方法在单晶Si和非晶SiO2基片上制备了TiNi和TiNiCu形状记忆合金薄膜,并利用示差扫描量热法和基片曲率法研究了薄膜的相变特征及应力随温度的变化.研究结果表明450℃溅射形成的记忆合金薄膜具有良好的形状记忆效应,在微电子机械系统有很好的应用前景.TiNi薄膜降温时出现R相变,因而发生两步相变,而TiNiCu薄膜中马氏体和奥氏体间直接转变.基片以及薄膜成份对相变点有很大的影响.单晶Si片作为基片时,记忆合金薄膜和基片间有很好的结合力,而SiO2作为基片时,记忆合金薄膜容易剥落.     

飞机座舱玻璃铌掺杂ITO镀膜工艺参数选择

对飞机座舱玻璃镀膜能够有效提高飞机的头向隐身性并能优化座舱光电性能参数。针对座舱玻璃铌掺杂ITO镀膜,重点研究参与溅射的靶材数目、氧气流量等工艺参数对其性能参数的影响规律。结果表明:参与溅射的靶材数目增加,方块电阻快速降低,之后下降斜率变小,趋于定值;透光率振荡变化,且当方块电阻大小稳定后逐渐变小。氧气流量增加时,方块电阻先减小后增加,当氧气流量大于6sccm时,方块电阻迅速增加,透光率振荡后降低。不同基底的铌掺杂ITO薄膜,其方块电阻和透光率变化不大,仅影响真空度等其他工艺过程。各工艺参数对薄膜颜色有一定的制约作用。     

离子镀膜扩散渗铝工艺

前言离子镀膜作为一种镀膜新工艺在国外得到了广泛的运用。它已被用于耐腐、耐热、耐磨装饰等方面,以及机械、光学和电子工业中。利用离子镀可以镀多种金属、氧化物、硫化物、塑料、玻璃、陶瓷等材料。离子镀膜为渗金属开辟了一条新路。目前     

钢球对肥皂靶的撞击试验

为研究投射物对生物体的致伤效应,采用肥皂作为生物体模拟物,开展了Φ3．0mm 的钢球高速（0．96和1．88km/s）及超高速（3．52和4．98km/s）撞击肥皂靶的试验,获得了肥皂靶在钢球撞击下的损伤特征及其破坏规律。结果表明：高速试验条件下,钢球对肥皂靶的损伤主要表现为贯穿效果;超高速试验条件下,钢球撞击肥皂靶形成大尺寸半球形弹坑,其对肥皂靶的损伤表现为2个方面：一是大尺寸弹坑导致的“体积移除”,二是受超高速撞击的强烈冲击波影响,肥皂靶的破坏区域大于弹坑区域。     

激光陀螺超高反射镜基片抛光工艺

采用新型双层结构沥青抛光模和两种抛光粉（CeO2和Fe2O3）分步抛光工艺，在合理选择抛光工艺参数的条件下，实现了微晶玻璃激光陀螺反射镜基片的超精密抛光，表面粗糙度达到Ra＜0．5nm、面型精度N＝0．5、△N=0，1．     

飞机座舱复合玻璃电磁性能和透光性能研究

 研究了电磁性能 ,如电磁波后向散射功率、吸收功率以及反射功率与透明导电膜的内在关系 ;研究透光性能 ,如光学膜系的优化设计等。提出了透明导电膜与多层玻璃合理组合以提高电磁性能 ;薄金属膜与多层光学膜合理匹配以提高透光率。采用溅射和蒸发镀膜方法分别实现了上述优化设计的光学膜系结构 ,并与多层玻璃合理层合后 ,斜入射电磁后向散射功率下降 1 0 d B,透光率可达到 77%。     

冠齿喷管射流冲击半圆形靶面的对流换热

针对具有相同相对曲率（d/D=0.1）的凹形和凸形半圆柱靶面,在典型的雷诺数（Re=5 000~12 000）和无因次冲击距离（H/d=1~8）下进行了射流冲击对流换热的实验研究,同时在特定的射流雷诺数下进行了射流冲击大涡模拟分析,以揭示冠齿喷管在不同形状靶面上的强化传热作用机制。研究结果表明：射流喷管和靶面形状对于射流驻点附近的流场和对流换热具有显著的影响,冠齿喷管出口诱导的流向涡改变了圆形射流发展中的轴对称环形涡内在特征,无论是凹形还是凸形靶面,冠齿喷管相对于圆形喷管都体现出一定的强化射流传热效果;与凸形靶面相比,射流冲击凹形靶面受到凹腔内部的回流影响,导致冠齿喷管射流冲击对流换热的降低。     

三维磁流体动力学管道流动加减速控制数值研究

阐述了磁流体动力学(MHD)控制流场作用机理.在小磁雷诺数条件下,运用数值模拟方法,对不同外加电磁场条件下三维MHD管道流动的流场情况进行研究,得出不同磁场、电场等MHD参数作用下MHD加速器的性能.对MHD加速器的应用前景进行了展望.计算结果显示,电场取6000V/m,磁场为0.92T 情况下,流场的加速性能可达13.46%,并且可以通过减小磁场或增大电场进一步提高加速性能;在仅添加0.92T磁场条件下,速度减速可达16.35%.     

多弧磁控溅射离子镀膜设备

本项成果是基于真空条件下弧光放电时产生的阴极弧斑将材料直接从固态气化并电离的原理。该项设备已逐渐向建材、装饰、工具等行业推广应用 ,并已经打入东南亚市场。该设备可生产大型钛金装饰镀制品、高弧离子镀金产品及工具镀氮化钛制品。设备功能多 ,获中国专利多弧磁控溅射离子镀膜设备$北京环境工程研究所     

环形激光陀螺高反膜的中性离子束镀制技术

美国罗克韦尔(ROCKWELL)国际公司已研制出一种先进的离子束溅射镀膜设备,用于生产高精度环形激光陀螺导航仪的薄膜。离子束镀膜机由一个真空度低于10~(10)乇的真空室,两个宽束离子源,一个正方体靶装置和一个工件盘组成。真空室为φ609.6mm×609.6mm 的圆柱体,内装有膜厚分析仪,质谱仪,真空测量仪等设备,镀膜成品率可达85%。各种膜片在使用前必须进行反射率、透射率、吸收散射的测试,甚至膜层晶体结构的测试。该公司采用一种腔体衰减时间测试方法测量总损耗,测量分辨率为0.01ppm,散射和透过率采用直接测     

性能保证条件下航空电子高速交换机的加速方法

 以保证航空电子互连网络的确定性延迟和高带宽为目的,建立航空电子交换式以太网（AFDX）承载于波分复用（WDM）之上的架构,兼容AFDX的延迟确定性和WDM的带宽可扩性,满足航空电子互连网络对实时性和高带宽的要求。通过对实时通信中周期性数据帧的分析,提出光波聚合加速方法,对输入端到达的数据帧进行重新分配和整型,充分利用每条光波的带宽资源,减少交换使用的波长数。在性能保证条件（100%通过率下保证有界延迟）下,对使用光波聚合方法的交换机制进行了数学推导。最后通过计算机仿真,以网络延迟时间率和加速因子为性能衡量指标推证了该加速方法的优越性和可行性。