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低电压(10V)下镁合金表面电化学氧化膜层
引用本文:朱立群,王喜眉,张玲玲.低电压(10V)下镁合金表面电化学氧化膜层[J].北京航空航天大学学报,2008,34(12):1402-1406.
作者姓名:朱立群  王喜眉  张玲玲
作者单位:北京航空航天大学 材料科学与工程学院, 北京 100191
摘    要:基于高电压下氧化成膜有可能对镁合金基材机械性能造成损伤.研究了在以硅酸钠为主要成分的电解液中,施加10~110V交流电压对AZ91D镁合金表面进行电化学氧化的成膜过程.探讨了氧化电压、氧化时间等对膜层性能的影响规律,并且对所获得氧化膜层进行了微观分析.结果表明:在10V电压下氧化就能获得与70~110V电压下耐腐蚀性相当的氧化膜层;而且在10V交流电压下获得的氧化膜层形成过程为颗粒状形式-连接成块状-完整的膜层-交错叠式生长等4个阶段.

关 键 词:镁合金  低电压氧化  氧化膜层  硅酸钠
收稿时间:2008-01-04

Electrochemical oxidation film of magnesium alloy at low voltage(10V)
Zhu Liqun,Wang Ximei,Zhang Lingling.Electrochemical oxidation film of magnesium alloy at low voltage(10V)[J].Journal of Beijing University of Aeronautics and Astronautics,2008,34(12):1402-1406.
Authors:Zhu Liqun  Wang Ximei  Zhang Lingling
Institution:School of Materials Science and Engineering, Beijing University of Aeronautics and Astronautics, Beijing 100191, China
Abstract:Anodic oxidation coatings formed on the surface of magnesium alloys at higher voltage could degrade the mechanical performance of the magnesium alloys material.In order to overcome the shortcoming of mechanical performance reduction,the electrochemical oxidation films were prepared on AZ91D magnesium alloy in Na2SiO3 mainly contained solution and the electrochemical oxidation voltage which was supplied by AC power supply was from 10 V to 110 V.The growth process of the electrochemical oxidation on the surfa...
Keywords:magnesium alloys  low voltage oxidation  anodic films  sodium silicate  
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