模拟原子氧环境下聚酰亚胺材料的侵蚀研究(英文)

用热阴极灯丝放电产生的氧等离子体来研究聚酰亚胺材料在原子氧环境下的侵蚀过程,通过扫描电镜(SEM)和X射线光电子能谱(XPS)对试样的质量损失、表面形貌和表面成分进行了表征。结果表明:当聚酰亚胺材料暴露在原子氧环境中,原子氧首先在试样表面产生物理吸附,然后与试样表面基团发生选择性化学反应,生成挥发性有机化合物,试样质量损失呈线性增加,表面形成地毯状形貌。在原子氧暴露初期,原子氧主要与芳环上特定位置的C反应,而后C=O基团的反应速度逐渐加快。原子氧暴露后,O元素含量增加,C、N元素含量减少。与C、O元素相比,含N基团与原子氧的反应速度较慢。