| 基底沉积温度对WO3薄膜电致变色特性的影响 |
| |
| 引用本文： | 张金伟%刁训刚%王怀义%黄俊%舒远杰.基底沉积温度对WO3薄膜电致变色特性的影响[J].宇航材料工艺,2007,37(5):43-45. |
| |
| 作者姓名： | 张金伟%刁训刚%王怀义%黄俊%舒远杰 |
| |
| 作者单位： | 1. 北京航空航天大学,北京,100083
2. 中国工程物理研究院化工材料研究所,绵阳,621900 |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金;中国工程物理研究院"双百"人才基金 |
| |
| 摘 要： | 分别在室温和基片温度低于223 K的条件下,采用直流反应磁控溅射法制备WO3薄膜。对两种条件下制备的薄膜晶体结构、透射光谱特性及电致变色性能进行对比分析。结果表明,低温沉积有利于WO3薄膜非晶化,使得Li^＋的抽取更加容易,进而显示出良好的变色性能。低温制备的WO3薄膜在可见光400-800nm范围内着色态和漂白态平均透光率差值达70%以上,在690 nm处的着色系数达到了48.7 cm^2/C,具有良好的变色效率。
|
| 关 键 词： | 低温 三氧化钨 电致变色 非晶态 |
| 修稿时间： | 2007-06-25 |
Influence of Deposition Temperature Upon Electrochromic Property of WO3 Films |
| |
| Zhang Jinwei,Diao Xungang,Wang Huaiyi,Huang Jun,Shu Yuanjie.Influence of Deposition Temperature Upon Electrochromic Property of WO3 Films[J].Aerospace Materials & Technology,2007,37(5):43-45. |
| |
| Authors: | Zhang Jinwei Diao Xungang Wang Huaiyi Huang Jun Shu Yuanjie |
| |
| Institution: | 1 Beihang University, Beijing 100083; 2. Institute of Chemical Materials, CAEP, Mianyang 621900 |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | Low temperature WO3 Eleetroehromie Amorphous |
| 本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录！ |
| 点击此处可从《宇航材料工艺》浏览原始摘要信息 |
| 点击此处可从《宇航材料工艺》下载免费的PDF全文 |
|
