基于二氧化钒的辐射率可调涂层设计 |
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引用本文: | 闫 璐,王 孝,曹韫真,沈自才.基于二氧化钒的辐射率可调涂层设计[J].宇航材料工艺,2016,46(3). |
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作者姓名: | 闫 璐 王 孝 曹韫真 沈自才 |
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作者单位: | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
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摘 要: | 设计了基于VO_2的非对称FP腔薄膜结构的智能热控涂层,并应用光学模拟计算的方法研究了不同膜层厚度对薄膜结构辐射率的影响,以及辐射率随角度的变化规律。计算结果表明,当相变层VO_2层的厚度从15 nm增至120 nm时,薄膜结构的辐射率变化Δε先增加再减小,VO_2厚度为50 nm时,Δε达到最大,约为0.6。介质层HfO_2的厚度主要影响多层薄膜结构的高温吸收带位置,但Δε在HfO_2层厚度为800~1 000 nm,均可达到约0.6的最大值。多层薄膜结构在0°~70°,仍保持明显的辐射率变化,Δε在0.4以上。
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关 键 词: | 智能热控涂层ꎬ 二氧化钒ꎬ 模拟计算 |
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