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| 磁流变抛光近零亚表面损伤工艺研究 | |
| 引用本文： | 吕汉峰,郑子文,彭小强,石峰.磁流变抛光近零亚表面损伤工艺研究[J].航空精密制造技术,2010,46(4). |
| 作者姓名： | 吕汉峰 郑子文 彭小强 石峰 |
| 作者单位： | 国防科学技术大学机电工程与自动化学院,长沙,410073 |
| 摘 要： | 实验表明磁流变抛光以其独特的剪切去除机理可用于光学元件亚表面损伤的去除,并且自身不产生新的划痕,同时还可提升光学元件的表面质量,可作为高效加工无损光学元件的一种工艺。 |
| 关 键 词： | 磁流变抛光 亚表面缺陷 划痕 |
Research on Removing Subsurface Damage by Using Magnetorheological Finishing Technology |
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