| O-SiC_P/Fe界面化学稳定性 |
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| 引用本文： | 汤文明,郑治祥,丁厚福,金志浩.O-SiC_P/Fe界面化学稳定性[J].航空材料学报,2001(4). |
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| 作者姓名： | 汤文明 郑治祥 丁厚福 金志浩 |
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| 作者单位： | 西安交通大学金属材料强度国家重点实验室，合肥工业大学材料科学与工程学院，合肥工业大学材料科学与工程学院，西安交通大学金属材料强度国家重点实验室 陕西西安710049合肥工业大学材料科学与工程学院，安徽合肥230009，安徽合肥230009，安徽合肥230009，陕西西安710049 |
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| 摘 要： | SiC颗粒在静态空气气氛中经 12 0 0℃× 10h钝化氧化处理后在表面形成厚约 0 .6 μm ,具有晶态的 β 方石英结构的致密氧化膜。经在氢气气氛 ,115 0℃× 1h高温处理 ,3SiCP/Fe界面反应形成以Fe3 Si,颗粒状石墨和Fe3 C为主的反应产物。Fe3 Si和颗粒状石墨构成反应区 ,Fe3 C在金属基体晶界形成片状珠光体。 10SiCP/Fe中的界面反应更加激烈 ,SiCP 被完全消耗 ,并被由Fe3 Si和石墨颗粒构成的反应区所替代 ,金属基体因含Si量高而脆化。SiCP 表面氧化膜通过隔离原本相互接触的SiC与Fe以阻碍Fe ,Si和C原子的相互扩散 ,有利于抑制O SiCP/Fe界面反应 ,提高其界面化学稳定性
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| 关 键 词： | 钝化氧化 界面反应 反应阻挡层 化学稳定性 |
Study on the chemical compatibility of O-SiC_P/Fe |
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| TANG Wen ming ,ZHENG Zhi xiang ,DING Hou fu ,JIN Zhi hao.Study on the chemical compatibility of O-SiC_P/Fe[J].Journal of Aeronautical Materials,2001(4). |
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| Authors: | TANG Wen ming ZHENG Zhi xiang DING Hou fu JIN Zhi hao |
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| Institution: | TANG Wen ming 1,2,ZHENG Zhi xiang 2,DING Hou fu 2,JIN Zhi hao 1 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | passive oxidation interface reaction reaction barrier chemical compatibility |
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