| 阴极微弧放电制备TiAl合金表面Al_2O_3膜的高温氧化性能 |
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| 引用本文： | 李夕金,薛文斌,程国安.阴极微弧放电制备TiAl合金表面Al_2O_3膜的高温氧化性能[J].航空材料学报,2010,30(4):26-30. |
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| 作者姓名： | 李夕金 薛文斌 程国安 |
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| 作者单位： | 1. 河南大学,物理与电子学院,河南,开封,475001
2. 北京师范大学,射线束与材料改性教育部重点实验室,北京,100875 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 |
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| 摘 要： | 在Al(NO3)3溶液中利用阴极微弧放电沉积方法,制备了TiAl合金表面的Al2O3膜,膜的厚度为80μm。空气环境下,在900℃下进行高温氧化实验。利用扫描电镜(SEM)和X射线衍射(XRD)分析了样品在高温氧化前后的形貌和物相变化。100h高温氧化后,Al2O3膜保持完整,与基体有较好的结合。高温氧化前后物相均为γ-Al2O3和少量的α-Al2O3,但是氧化后的膜层中出现了少量的Rutile-TiO2。阴极微弧沉积方法在TiAl合金表面制备的Al2O3膜能够有效地提高基体在900℃时的抗氧化性能。
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| 关 键 词： | 阴极微弧沉积 高温氧化 Al2O3膜 |
High Temperature Oxidation Properties of Al2O3 Coating on TiAl Alloy Fabricated by Cathodic Microarc Deposition Method |
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| LI Xi-jin,XUE Wen-bin,CHENG Guo-an.High Temperature Oxidation Properties of Al2O3 Coating on TiAl Alloy Fabricated by Cathodic Microarc Deposition Method[J].Journal of Aeronautical Materials,2010,30(4):26-30. |
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| Authors: | LI Xi-jin XUE Wen-bin CHENG Guo-an |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | TiAl |
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