| 柱状晶结构热障涂层的沉积生长和织构研究 |
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| 引用本文： | 程泽飞,杨加胜,邵芳,赵华玉,钟兴华,庄寅,倪金星,陶顺衍.柱状晶结构热障涂层的沉积生长和织构研究[J].航空制造技术,2019(3). |
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| 作者姓名： | 程泽飞 杨加胜 邵芳 赵华玉 钟兴华 庄寅 倪金星 陶顺衍 |
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| 作者单位： | 中国科学院上海硅酸盐研究所,中国科学院特种无机涂层重点实验室, 上海 201899;中国科学院大学材料与光电研究中心, 北京 100049;中国科学院上海硅酸盐研究所,中国科学院特种无机涂层重点实验室, 上海 201899;中国科学院大学材料与光电研究中心, 北京 100049;中国科学院上海硅酸盐研究所,中国科学院特种无机涂层重点实验室, 上海 201899;中国科学院大学材料与光电研究中心, 北京 100049;中国科学院上海硅酸盐研究所,中国科学院特种无机涂层重点实验室, 上海 201899;中国科学院大学材料与光电研究中心, 北京 100049;中国科学院上海硅酸盐研究所,中国科学院特种无机涂层重点实验室, 上海 201899;中国科学院大学材料与光电研究中心, 北京 100049;中国科学院上海硅酸盐研究所,中国科学院特种无机涂层重点实验室, 上海 201899;中国科学院大学材料与光电研究中心, 北京 100049;中国科学院上海硅酸盐研究所,中国科学院特种无机涂层重点实验室, 上海 201899;中国科学院大学材料与光电研究中心, 北京 100049;中国科学院上海硅酸盐研究所,中国科学院特种无机涂层重点实验室, 上海 201899;中国科学院大学材料与光电研究中心, 北京 100049 |
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| 摘 要： | 等离子体–物理气相沉积(PS–PVD)技术融合了等离子体喷涂(PS)和电子束–物理气相沉积(EB–PVD)的优点,沉积效率高、成本相对较低和可制备柱状晶结构涂层。因此,PS–PVD在制备先进发动机热障涂层(TBCs)上备受关注。利用PS–PVD工艺制备了多种结构的氧化钇部分稳定氧化锆(YSZ)TBCs,采用场发射扫描电镜(FE–SEM)和电子背散射衍射(EBSD)观察和分析涂层微结构与晶体织构特征。试验表明:制备的YSZ涂层为柱状晶结构,在同一喷涂距离处,沿喷涂斑点中心向外围过渡区域,柱状晶端面由四棱锥结构向菜花状结构转变,单柱状晶具有一定的晶体取向,但不同的柱状晶具有不同的结晶取向,制备态陶瓷层整体未呈现明显的择优取向和应力集中。
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| 关 键 词： | 等离子体—物理气相沉积 氧化钇稳定氧化锆 (YSZ) 涂层 柱状晶结构 择优取向 应力集中 |
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