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| MIG磁头制作中解决PSEUDO现象的工艺技术 | |
| 引用本文： | 郑百升.MIG磁头制作中解决PSEUDO现象的工艺技术[J].航天制造技术,1998(5):19-21. |
| 作者姓名： | 郑百升 |
| 作者单位： | 北京计算机及应用研究所 |
| 摘 要： | 介绍了１３５ＴＰＩ、ＭＩＧ软盘磁头研制过程中解决Ｐｓｅｕｄｏ现象的最佳工艺选择，其主要工艺是围绕解决金属膜的材料选择、制作方法，及磁心制作过程和磁头制作过程中金属膜防腐蚀技术，以便使虚假的二次缝隙效应减到最少。 |
| 关 键 词： | MIG磁头 Pseudo现象 制作方法 溅射工艺 |
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