挤压珩磨——一项表面光整加工及去毛刺新工艺 |
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引用本文: | 罗克然
,杜松岩.挤压珩磨——一项表面光整加工及去毛刺新工艺[J].航天制造技术,1988(3). |
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作者姓名: | 罗克然 杜松岩 |
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摘 要: | 挤压珩磨表面光整加工技术是利用含磨粒的半流动状态的粘性磨料,籍挤压设备与夹具的作用,在压力作下用强迫通过工件的被加工表面,去除工件表面材料的工艺方法。粘性磨料是由载体、磨料和添加剂三部分组成的胶泥状物,具有良好的研磨性能,不与工件粘连,无毒、无味、无腐蚀性、化学性能稳定、使用寿命长。挤压压力一般在1.96~9.80MPa,加工时间1~10分钟,工件的表面粗糙度一般可改善2~3级,珩磨加工精度可达±5μm以内。
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关 键 词: | 特种加工 珩磨 珩磨机 |
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