| 气相沉积技术的现状与发展 |
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| 引用本文： | 刘晓红,陈志勇,邓山江.气相沉积技术的现状与发展[J].华北航天工业学院学报,2006,16(3):26-28. |
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| 作者姓名： | 刘晓红 陈志勇 邓山江 |
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| 作者单位： | [1]承德信息工程技术学校理工系,河北承德067000 [2]北华航天工业学院材料工程系,河北廊坊065000 [3]亚新科美联廊坊制动系统有限公司,河北廊坊065000 |
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| 摘 要： | 本文阐述了气相沉积技术的发展和应用,概括了此技术在我国的现状,分析并展望其未来的发展,还注意到了研究领域中的动向和趋势。
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| 关 键 词： | 气相沉积 等离子 超硬覆层 |
| 文章编号： | 1009-2145（2006）03-0026-03 |
| 收稿时间： | 2006-04-03 |
Current Situation and Development Trend of Vapor Deposition Technology |
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| LIU Xiao-hong,CHEN Zhi-yong,DENG Shan-jiang.Current Situation and Development Trend of Vapor Deposition Technology[J].Journal of North China Institute of Astronautic Engineering,2006,16(3):26-28. |
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| Authors: | LIU Xiao-hong CHEN Zhi-yong DENG Shan-jiang |
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| Abstract: | The development and use of Vapor deposition technology in our country are presented in this paper. The future development of this technology is analysed. |
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| Keywords: | vapor deposition plasma superhard coating |
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