新型立体测绘光学系统杂散辐射分析与抑制 |
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引用本文: | 姚罡,黄颖,汤天瑾.新型立体测绘光学系统杂散辐射分析与抑制[J].航天返回与遥感,2013(3):65-73. |
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作者姓名: | 姚罡 黄颖 汤天瑾 |
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作者单位: | 北京空间机电研究所 |
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摘 要: | 针对国家发明专利《基于集成式共用主镜的双视场立体成像光学系统》(发明专利号:ZL2009 1 0243273.8)中所设计的光学系统,进行了杂散辐射的仿真分析及抑制。为了实现较大基高比的立体测绘,满足内方位元素的高稳定度,以实现对图像的高精度校正,采用了集成式共用主镜的双视场立体成像光学系统,它具有结构紧凑、轻量化及热稳定性好等特点。针对该光学系统独特的光学系统结构型式并实现其工程化,通过仿真并根据杂散光的传播路径进行了分类总结分析,通过采取有效的杂散光抑制措施,光学系统最终的杂散光系数为1.1075%,满足系统的使用要求。
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关 键 词: | 立体测绘 离轴三反 杂散光抑制 空间相机 |
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