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气相沉积技术的现状与发展
引用本文:刘晓红,陈志勇,邓山江.气相沉积技术的现状与发展[J].北华航天工业学院学报,2006,16(3):26-28.
作者姓名:刘晓红  陈志勇  邓山江
作者单位:1. 承德信息工程技术学校,理工系,河北,承德,067000
2. 北华航天工业学院,材料工程系,河北,廊坊,065000
3. 亚新科美联《廊坊》制动系统有限公司,河北,廊坊,065000
摘    要:本文阐述了气相沉积技术的发展和应用,概括了此技术在我国的现状,分析并展望其未来的发展,还注意到了研究领域中的动向和趋势.

关 键 词:气相沉积  等离子  超硬覆层
文章编号:1009-2145(2006)03-0026-03
修稿时间:2006年4月3日

Current Situation and Development Trend of Vapor Deposition Technology
LIU Xiao-hong,CHEN Zhi-yong,DENG Shan-jiang.Current Situation and Development Trend of Vapor Deposition Technology[J].Journal of North China Institute of Aerospace Engineering,2006,16(3):26-28.
Authors:LIU Xiao-hong  CHEN Zhi-yong  DENG Shan-jiang
Abstract:
Keywords:
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