| 沉积位置对LPCVD SiC涂层微观结构的影响 |
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| 引用本文： | 张渭阳,郭领军,王少龙,景伟,付前刚.沉积位置对LPCVD SiC涂层微观结构的影响[J].固体火箭技术,2014(5). |
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| 作者姓名： | 张渭阳 郭领军 王少龙 景伟 付前刚 |
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| 作者单位： | 西北工业大学 凝固技术国家重点实验室，C/C复合材料工程技术研究中心，西安 710072 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金创新群体项目，教育部博士点基金，国家自然科学基金面上项目(51222207)。 |
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| 摘 要： | 采用低压化学气相沉积法( LPCVD)在炭纤维表面制备了SiC涂层，借助扫描电镜、X射线衍射仪和拉曼光谱仪对不同沉积位置SiC涂层的微观形貌和晶体结构进行了表征。 SEM结果表明，沿气流方向，涂层表面逐渐致密和均匀；SiC涂层为多层结构，这种多层结构的形成可能是由于反应中产生的HCl气体吸附在表面反应活性点，从而通过活性点的阻塞机制来阻止SiC晶粒的生长。 XRD结果表明，制备的涂层中存在自由碳，各位置处的SiC晶体在(111)晶面存在择优取向，且沿气流方向(111)晶面的取向性逐渐减弱，(220)和(311)晶面的取向性逐渐增加。拉曼光谱低段频谱(200~600 cm-1)的出现表明CVD涂层中存在一定的缺陷。
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| 关 键 词： | 低压化学气相沉积 沉积位置 SiC涂层 微观结构 |
Effect of position on microstructure of SiC coating by low pressure chemical vapor deposition |
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| ZHANG Wei-yang,GUO Ling-jun,WANG Shao-long,JING Wei,FU Qian-gang.Effect of position on microstructure of SiC coating by low pressure chemical vapor deposition[J].Journal of Solid Rocket Technology,2014(5). |
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| Authors: | ZHANG Wei-yang GUO Ling-jun WANG Shao-long JING Wei FU Qian-gang |
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| Keywords: | low pressure chemical vapor deposition ( LPCVD) position SiC coating microstructure |
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