| CVD金刚石薄膜表面抛光技术的研究 |
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| 引用本文： | 张克华,文东辉,袁巨龙.CVD金刚石薄膜表面抛光技术的研究[J].航空精密制造技术,2008,44(1):20-24. |
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| 作者姓名： | 张克华 文东辉 袁巨龙 |
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| 作者单位： | 1. 浙江师范大学交通学院,金华,321014;浙江工业大学机械制造及自动化教育部重点实验室,杭州,310032
2. 浙江工业大学机械制造及自动化教育部重点实验室,杭州,310032 |
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| 基金项目： | 机械制造及自动化教育部重点实验室开放基金 |
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| 摘 要： | 对CVD金刚石膜的离子束铣削、电子束加工、激光加工、化学辅助机械抛光、热化学抛光等抛光技术的加工方法与原理进行了介绍,分析了这些方法的优点和不足之处。并展望了CVD金刚石薄膜抛光技术的发展方向。
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| 关 键 词： | 化学气相沉积 金刚石薄膜 抛光 |
| 文章编号： | 1003-5451(2008)01-0020-05 |
| 修稿时间： | 2007年9月20日 |
Study of Polishing Technology for CVD Diamond Thin Films |
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| ZHANG Ke-hua,WEN Dong-hui,YUAN Ju-long.Study of Polishing Technology for CVD Diamond Thin Films[J].Aviation Precision Manufacturing Technology,2008,44(1):20-24. |
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| Authors: | ZHANG Ke-hua WEN Dong-hui YUAN Ju-long |
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| Abstract: | The method and principle of polishing technology for chemical vapour deposition (CVD) diamond films were introduced, such as ion beam milling, electronic beam, laser, chemical-assisted mechanical polishing and thermal chemical polishing. The merit and the deficiency were analyzed too. Finally, the development direction of polishing technology for CVD diamond thin film was forecasted. |
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| Keywords: | chemical vapour deposition diamond thin films polishing |
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