| 脉冲偏压对电弧离子镀CrN_x薄膜组织结构与性能的影响 |
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| 引用本文： | 张晓柠,陈康敏,郑陈超,黄燕,关庆丰,宫磊,孙超.脉冲偏压对电弧离子镀CrN_x薄膜组织结构与性能的影响[J].航空材料学报,2010,30(5). |
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| 作者姓名： | 张晓柠 陈康敏 郑陈超 黄燕 关庆丰 宫磊 孙超 |
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| 作者单位： | 1. 江苏大学,材料科学与工程学院,江苏,镇江,212013
2. 中国科学院金属研究所,材料表面工程研究部,沈阳,110016 |
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| 基金项目： | 江苏大学高级人才基金，江苏大学科技创新团队资助的课题 |
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| 摘 要： | 利用电弧离子镀技术在TC4基体上制备CrNx薄膜,研究了脉冲偏压对薄膜的组织结构和力学性能的影响。结果表明,在一定范围内提高脉冲偏压可以显著减少薄膜表面熔滴的数量及尺寸,改善表面平整度,获得高质量的薄膜;同时随着脉冲偏压的升高,CrNx薄膜由CrN单相变为Cr,Cr2N和CrN三相组成,硬度与结合强度的峰值可分别达到24294.2MPa和43N;薄膜的摩擦系数在偏压幅值为-300V时具有最小值0.43。
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| 关 键 词： | 电弧离子镀 脉冲偏压 CrNx薄膜 组织结构 |
Effect of Pulsed Bias on Microstructure and Mechanical Properties of CrNx Coatings Deposited by Arc Ion Plating |
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| ZHANG Xiao-ning,CHEN Kang-min,GUAN Qing-feng,GONG Lei,SUN Chao,ZHENG Chen-chao,HUAN Yan.Effect of Pulsed Bias on Microstructure and Mechanical Properties of CrNx Coatings Deposited by Arc Ion Plating[J].Journal of Aeronautical Materials,2010,30(5). |
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| Authors: | ZHANG Xiao-ning CHEN Kang-min GUAN Qing-feng GONG Lei SUN Chao ZHENG Chen-chao HUAN Yan |
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