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责任编辑
分类号
杂志ISSN号
化学气相沉积工艺制备SiC涂层
作者姓名:
刘荣军%周新贵%张长瑞%曹英斌
作者单位:
国防科技大学航天与材料工程学院国防科技重点实验室,长沙,410073
摘 要:
利用化学气相沉积工艺制备了SiC涂层,对涂层进行了SEM及XRD分析,考察了温度,载气和稀释气体对涂层微观结构的影响;对不同基体进行了对照试验。在1100℃-1300℃沉积时,随着温度的升高,SiC涂层积速度加快,SiC颗粒变大,同时颗粒间的孔隙也变大,涂层的致密度降低,Ar流量相对小时,制备的涂层致密,光滑。以SiCp/SiC作基体时,涂层和基体结合得很牢固,SiC颗粒会向基体中渗透,从而增强了涂层和基体之间的结合力。
关 键 词:
制备 化学气相沉积 碳化硅 涂层材料
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