飞行器敏感系统在轨分子污染沾染量预估方法研究 |
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作者姓名: | 王鷁%王先荣%姚日剑 |
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作者单位: | 兰州物理研究所真空低温技术与物理国防科技重点实验室,兰州,730000 |
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摘 要: | 空间环境下,材料出气引起的分子污染效应是影响飞行器寿命和可靠性的重要因素之一。本文就材料出气分子经历的出气、在空间的传播输运和沉积三个过程及有诸多污染出气源存在时,对敏感表面沉积量的影响等进行了研究。建立了针对飞行器敏感系统功能表面在轨分子污染沾染量的预估模型。并利用该理论模型,结合相机镜头结构和空间环境的使用条件,模拟计算其镜头表面在轨飞行期间的分子污染物沾染量随时间变化的结果,同时理论计算结果结合试验测试数据评估相机镜头的在轨使用业绩。结果表明,镜头由于分子污染物沉积引起光学透过率的衰减达30%以上。所得到的结论对完善飞行器的防污染设计,提高飞行器在轨期间安全和性能保障具有重要的参考意义。
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关 键 词: | 出气 分子污染 预估 模型 |
修稿时间: | 2006-06-212006-08-30 |
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