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多弧磁控溅射离子镀膜设备
引用本文:
李连清.多弧磁控溅射离子镀膜设备[J].宇航材料工艺,2004,34(4):31-31.
作者姓名:
李连清
作者单位:
北京环境工程研究所
摘 要:
本项成果是基于真空条件下弧光放电时产生的阴极弧斑将材料直接从固态气化并电离的原理。该项设备已逐渐向建材、装饰、工具等行业推广应用 ,并已经打入东南亚市场。该设备可生产大型钛金装饰镀制品、高弧离子镀金产品及工具镀氮化钛制品。设备功能多 ,获中国专利多弧磁控溅射离子镀膜设备$北京环境工程研究所
关 键 词:
多弧磁控溅射离子镀
镀膜设备
专利
氮化钛
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