电离总剂量效应对浮栅型Flash存储器擦写耐久与数据保持特性的影响研究 |
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引用本文: | 刘岐, 沈鸣杰, 董艺, 等. 电离总剂量效应对浮栅型Flash存储器擦写耐久与数据保持特性的影响研究[J]. 航天器环境工程, 2019, 36(3): 264-270doi:10.12126/see.2019.03.011 |
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作者姓名: | 刘岐 沈鸣杰 董艺 |
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作者单位: | 上海复旦微电子集团股份有限公司,上海 200433 |
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摘 要: | 文章通过电离总剂量效应、擦写循环和数据保持试验及其叠加试验,研究了总剂量效应对浮栅型Flash存储器擦写耐久和数据保持特性的影响。对较高总剂量(150 krad(Si))和含动态偏置在内的多种偏置条件进行了评估。结果表明:总剂量效应对擦写特性的影响较小,甚至可以忽略;总剂量效应对数据保持的影响主要表现在辐射致电荷泄漏,若总剂量效应试验后刷新数据,则其影响几乎可以忽略。为了减小辐射致电荷泄漏对数据保持的影响,在系统级应用上建议增加数据刷新次数。
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关 键 词: | 浮栅型Flash存储器 电离总剂量效应 擦写耐久 数据保持 可靠性 试验研究 |
收稿时间: | 2018-12-03 |
修稿时间: | 2019-05-24 |
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