磁盘磁头圆柱状浮动面研磨技术

本成果用于制作冠高为4μm～5μm、粗造度为Ra 0.025μm的圆柱形浮动块工作面的一种研磨技术。整个工作由一台自制研磨机实现。操作方便、研磨成功率在80％以上。粗造度可达到Ra0.025μm（浮动块材料是微晶玻璃）。 从干涉仪中观察到的表征圆柱面性能的光圈平直度、平行度和条纹数均满足设计要求。 该成果已成功地应用于磁盘磁头的制作。