| 磁控溅射用W-Ti合金靶材的研究进展 |
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| 引用本文： | 杨亚飞,姚草根,吕宏军,李启军,崔子振.磁控溅射用W-Ti合金靶材的研究进展[J].宇航材料工艺,2021,51(6):10-16. |
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| 作者姓名： | 杨亚飞 姚草根 吕宏军 李启军 崔子振 |
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| 作者单位： | 航天材料及工艺研究所，北京 100076,航天材料及工艺研究所，北京 100076,航天材料及工艺研究所，北京 100076,航天材料及工艺研究所，北京 100076,航天材料及工艺研究所，北京 100076 |
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| 摘 要： | W-Ti合金靶材可作为原材料，通过磁控溅射技术，制备W-Ti、W-Ti-N、W-Ti-O等功能薄膜，应用于集成电路、薄膜太阳能电池等领域。本文介绍了W-Ti合金靶材的性能指标、各种制备技术和应用领域，提出高纯度、全致密、少富Ti相、小粒径、大尺寸、低成本是W-Ti合金靶材的重要方向。
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| 关 键 词： | W-Ti合金靶材 集成电路 致密度 |
| 收稿时间： | 2021/8/6 0:00:00 |
| 修稿时间： | 2021/8/30 0:00:00 |
Research Progress of W-Ti Alloy Targets for Magnetron Sputtering |
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| YANG Yafei,YAO Caogen,LV Hongjun,LI Qijun and CUI Zizhen.Research Progress of W-Ti Alloy Targets for Magnetron Sputtering[J].Aerospace Materials & Technology,2021,51(6):10-16. |
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| Authors: | YANG Yafei YAO Caogen LV Hongjun LI Qijun and CUI Zizhen |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | W-Ti alloy targets Integrated circuits Density |
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