| 氧化镍电致变色薄膜及其器件的制备与性能研究 |
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| 引用本文： | 罗自良,王顺花,毛佳伟,朱鸣飞,刁训刚.氧化镍电致变色薄膜及其器件的制备与性能研究[J].宇航材料工艺,2022,52(5):66-73. |
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| 作者姓名： | 罗自良 王顺花 毛佳伟 朱鸣飞 刁训刚 |
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| 作者单位： | 兰州交通大学材料科学与工程学院，兰州 730070,兰州交通大学材料科学与工程学院，兰州 730070,纳能镀膜丹阳有限公司，丹阳 212300,兰州交通大学材料科学与工程学院，兰州 730070,北京航空航天大学能源与动力工程学院，北京 100191 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金（51862022， 61875005） |
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| 摘 要： | 以氧化铟锡（ITO）玻璃为基底，采用直流反应磁控溅射法在室温环境下制备了高透过率调制的NiOx薄膜，利用X射线衍射仪（XRD）、扫描电子电镜 （SEM）、紫外可见分光光度计（UV 3600）对薄膜进行分析和表征，研究溅射过程中氩氧比、气压、功率对薄膜结构、形貌及电致变色性能的影响。结果表明：制备的NiOx薄膜表面有明显的结晶颗粒及孔隙，并沿（200）晶面择优生长；随着气压、功率、氧分压的增大，透过率调制先增大后减小，在时间为45 min、溅射气压4.9 Pa、氩氧比113∶7、功率215 W时最高可达58.3%，着褪色响应时间分别为9和19 s，相应的着褪色效率分别为77.56和40.39 cm2/C；以最优工艺的NiOx薄膜组装了结构为Glass/ITO/NiOx/Li-electrolyte/WO3/ITO/Glass的电致变色器件，器件在550 nm处的光调制幅度为46.5%，着褪色时间分别为27和45 s，相应的着褪色速率为1.5和0.9 %/s，在循环500次后透过率调制保持在40%以上。
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| 关 键 词： | 磁控溅射 NiOx薄膜 电致变色器件 高调制幅度 |
| 收稿时间： | 2022/4/21 0:00:00 |
| 修稿时间： | 2022/10/10 0:00:00 |
Preparation and Properties of Electrochromic Films and Devices Based on Nickel Oxide |
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| LUO Ziliang,WANG Shunhu,MAO Jiawei,ZHU Mingfei and DIAO Xungang.Preparation and Properties of Electrochromic Films and Devices Based on Nickel Oxide[J].Aerospace Materials & Technology,2022,52(5):66-73. |
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| Authors: | LUO Ziliang WANG Shunhu MAO Jiawei ZHU Mingfei and DIAO Xungang |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Magnetron sputtering NiOx thin film Electrochromic device High modulation amplitude |
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