| Ni-Mo电沉积层的组成和结构 |
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| 引用本文： | 黎向锋,左敦稳,王珉.Ni-Mo电沉积层的组成和结构[J].南京航空航天大学学报,1999,31(3):300-306. |
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| 作者姓名： | 黎向锋 左敦稳 王珉 |
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| 作者单位： | 南京航空航天大学机电工程学院,南京,210016 |
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| 基金项目： | 江苏省教育自然科学基金 |
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| 摘 要： | 利用Ｘ射线光电子谱（ＸＰＳ）研究了Ｎｉ－Ｍｏ沉积层的组成元素及其价态和深度分布，用扫描电子显微镜（ＳＥＭ）、Ｘ射线衍射技术（ＸＲＤ）和电子探针显微分析技术（ＥＰＭＡ）研究了电沉积Ｎｉ－Ｍｏ合金层的形貌、结晶状态、组成元素分布情况。结果表明，电沉积Ｎｉ－Ｍｏ合金层呈现亮色，表面比较均匀。电沉积层为非晶结构，２θ在４０°～５０°间有一弥散对称峰。沉积层中的Ｎｉ和Ｍｏ为零价态，它们的结合能分别为８５２．８ｅＶ和２２８．２ｅＶ。沉积层的真实组成（相对原子百分浓度）为：Ｎｉ５０．８６％，Ｍｏ２２．６３％，Ｏ２６．５１％。
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| 关 键 词： | X射线衍射 结构 电解沉积 |
Analysis on Structure of Electrodeposited Ni-Mo Alloy |
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| Li Xiangfeng,Zuo Dunwen,Wang Min.Analysis on Structure of Electrodeposited Ni-Mo Alloy[J].Journal of Nanjing University of Aeronautics & Astronautics,1999,31(3):300-306. |
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| Authors: | Li Xiangfeng Zuo Dunwen Wang Min |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | X ray diffraction structure electrolytic deposition |
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