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基于电磁铁励磁的圆孔磁流变抛光头研究
引用本文:王新海,张涛,马瑾,惠少阳.基于电磁铁励磁的圆孔磁流变抛光头研究[J].航空精密制造技术,2023(1):9-12.
作者姓名:王新海  张涛  马瑾  惠少阳
作者单位:陕西国防工业职业技术学院智能制造学院
基金项目:陕西国防工业职业技术学院2022年度校本科研计划项目(Gfy22-57);
摘    要:根据圆孔光学元件的抛光特点,采用有限元仿真分析磁极头厚度、气隙宽度及铁芯宽度等因素对磁场强度的影响规律,设计优化了一种新型高效抛光头,获得磁场强度最大值为H=144520A/m且覆盖宽度l=1.37mm,并对K9光学玻璃进行了抛光试验。试验结果表明:采用电磁铁励磁的磁流变抛光头可以实现光学元件表面的高精度面型加工。

关 键 词:磁流变抛光  圆孔  磁场强度  Maxwell软件
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