| CVD Al2O3-SiO2涂层的莫来石化行为 |
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| 引用本文： | 陈照峰,成来飞,张立同,严波,李聪.CVD Al2O3-SiO2涂层的莫来石化行为[J].航空材料学报,2005,25(5):34-37. |
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| 作者姓名： | 陈照峰 成来飞 张立同 严波 李聪 |
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| 作者单位： | 南京航空航天大学,材料科学与技术学院,南京,210016;西北工业大学,凝固技术国家重点实验室,西安,710072;西北工业大学,凝固技术国家重点实验室,西安,710072;南京航空航天大学,材料科学与技术学院,南京,210016 |
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| 基金项目： | 863计划(2002AA305306) |
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| 摘 要： | 采用CVD工艺,以AlCl3-SiCl4-H2-CO2为先驱体气相体系,在石墨纸上于550℃制备出Al2O3-SiO2复合氧化物涂层,通过DTA和XRD分析了该涂层的莫来石化过程.该涂层由γ-Al2O3和非晶SiO2组成,其DTA曲线有四个典型峰,793℃弱的放热峰为开始莫来石化峰;984℃尖锐的放热峰为γ-Al2O3向δ-Al2O3转化峰;1240℃弱的吸热峰为δ-Al2O3向α-Al2O3转化峰,该过程比较缓慢;1337℃强的放热峰为莫来石形成峰,发生在δ-Al2O3与SiO2之间.结果表明,该CVD过程不具氧化性,对C不腐蚀,制备的Al2O3-SiO2涂层经1350℃热处理2h可转化为莫来石结合α-Al2O3.
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| 关 键 词： | 化学气相沉积 Al2O3-SiO2 涂层 莫来石化 |
| 文章编号： | 1005-5053(2005)05-0034-04 |
| 修稿时间： | 2004年7月31日 |
Mullitization Behavior of Al2O3 -SiO2 Coating Deposited by CVD |
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| CHEN Zhao-feng,CHENG Lai-fei,ZHANG Li-tong,YAN Bo,LI Cong.Mullitization Behavior of Al2O3 -SiO2 Coating Deposited by CVD[J].Journal of Aeronautical Materials,2005,25(5):34-37. |
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| Authors: | CHEN Zhao-feng CHENG Lai-fei ZHANG Li-tong YAN Bo LI Cong |
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| Institution: | CHEN Zhao-feng~ |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | CVD Al_2O_3-SiO_2 coating mullitization behavior |
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