碳氮膜的沉积工艺及结构研究

以氮气为反应气体，用真空阴极电弧沉积法制备了CNx膜，对工艺参数对膜层的沉积速率，化学成份的影响及膜结合状态进行了研究，结果表明，沉积速率随着氮气分压的提高而下降，当氨气分压达到6．7Pa时将没有膜的沉积；CNx膜主要由碳和氮组成，降低真空系统的抽速，。将反应气体导至靶面附近，提高氮气分压可以提高膜层中氮含量；氮是以化合态存在于膜层中。