低铬酸—硼酸型电解液镀铬工艺 |
| |
引用本文: | 姜仁秀.低铬酸—硼酸型电解液镀铬工艺[J].航天制造技术,1992(3):20-22. |
| |
作者姓名: | 姜仁秀 |
| |
作者单位: | 万里无线电厂 |
| |
摘 要: | 铬酐和氰化物同被列为一类污染物,同是电镀行业的一大公害,但镀铬又是一个不可缺少的镀种,为此必须探索危害较少的镀铬新工艺,关于“低铬”镀铬的工艺研究很多,但大多是采用氟化物作催化剂,氟化物也有严重危害,现研究采用以硼酸为辅助催化剂的“低铬”工艺,与“高铬”工艺比较,铬酐用量减少76%;电流效率可高出3.2%;沉积速度则高出22%;镀层硬度:中心点高出25%;边角区高出10%;边缘效应弱;覆盖能力较好;其它,如镀层外观、结合强度相当;操作工艺元差异,
|
关 键 词: | 镀铬 电镀液 污染控制 |
本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录! |
|