低太阳吸收率αs,高发射率ε有机硅热控涂层进展 |
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引用本文: | 赵飞明.低太阳吸收率αs,高发射率ε有机硅热控涂层进展[J].宇航材料工艺,1998,28(3):11-14,48. |
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作者姓名: | 赵飞明 |
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作者单位: | 航天材料及工艺研究所!北京100079(赵飞明,张廉正,曾一兵,王慧,石苏星),沈阳师范学院!沈阳,110015(宋学军) |
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摘 要: | 本文总结了有机硅热控涂层的设计原理及其紫外真空降解原因,评述了涂层的国内外进展.
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关 键 词: | 热控涂层 有机硅 空间飞行器 吸收率 发射率 |
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