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低太阳吸收率αs,高发射率ε有机硅热控涂层进展
引用本文:赵飞明.低太阳吸收率αs,高发射率ε有机硅热控涂层进展[J].宇航材料工艺,1998,28(3):11-14,48.
作者姓名:赵飞明
作者单位:航天材料及工艺研究所!北京100079(赵飞明,张廉正,曾一兵,王慧,石苏星),沈阳师范学院!沈阳,110015(宋学军)
摘    要:本文总结了有机硅热控涂层的设计原理及其紫外真空降解原因,评述了涂层的国内外进展.

关 键 词:热控涂层  有机硅  空间飞行器  吸收率  发射率
本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录!
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