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| 宇航用瓷介电容表面处理工艺优化研究与实践 | |
| 引用本文： | 刘富品,田智文,李小鹏.宇航用瓷介电容表面处理工艺优化研究与实践[J].航天制造技术,2015(3):60-65. |
| 作者姓名： | 刘富品 田智文 李小鹏 |
| 作者单位： | 航天标准化研究所;北京元六鸿远电子有限公司 |
| 摘 要： | 系统研究了宇航用瓷介电容表面处理工艺存在的问题,分析了工艺影响因素及机理,并由此开展了工艺优化路线研究,从四个方面进行了优化实践,实现了宇航工艺控制目标。对今后开展宇航产品工艺优化研究及过程控制体系完善,具有参考意义。 |
| 关 键 词： | 瓷介电容 表面处理 电镀 工艺优化 |
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