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多孔压敏荧光粒子的制备与流场压力/速度测量的性能表征
引用本文:谷丰, 彭迪, 温新, 刘应征. 多孔压敏荧光粒子的制备与流场压力/速度测量的性能表征[J]. 实验流体力学, 2019, 33(2): 72-78. doi: 10.11729/syltlx20180180
作者姓名:谷丰  彭迪  温新  刘应征
作者单位:1. 上海交通大学机械与动力工程学院 叶轮机械研究所, 上海 200240;; 2. 上海交通大学 燃气轮机研究院, 上海 200240
基金项目:国家自然科学基金项目11502144
摘    要:

开发了一类微米级压敏荧光粒子。该粒子由表面多孔的空心二氧化硅(SiO2)粒子与压敏荧光材料(PtTFPP和Ru(dpp))融合而成。通过浸染方法使压敏荧光分子附着于粒子上,形成多功能示踪粒子,从而将粒子图像速度场测量技术(Particle Image Velocimetry,PIV)与压敏漆(Pressure Sensitive Paint,PSP)技术相结合,发展了一种流场压力与速度同步测量的技术,为流体力学研究提供一种崭新的实验测量手段。
利用PSP静态与动态标定系统,对压敏粒子的信号强度、压力敏感性与压力响应时间进行了测量,研究了不同粒径和不同材料对压敏粒子性能的影响。测量结果表明,制备的压敏粒子具有较好的压力敏感性,其压力响应时间区间为40~70μm,符合测量流场瞬态压力的需求。分析了粒子在流场中的跟随性能,其中2μm粒子松弛时间为7.5μs,有较好的跟随性能。




关 键 词:多孔粒子   PSP   PIV   压力速度同步测量
收稿时间:2018-11-16
修稿时间:2019-01-20
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