首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

非晶态铁硼薄膜的平面霍耳效应
引用本文:陈秉玉,常瑞廷.非晶态铁硼薄膜的平面霍耳效应[J].北京航空航天大学学报,1991(4):113-118.
作者姓名:陈秉玉  常瑞廷
作者单位:北京航空航天大学应用数理系 (陈秉玉,常瑞廷),北京航空航天大学应用数理系(程先安)
摘    要:对于用射频溅射法制得的Fe_(83)B_(17)薄膜进行了平面霍耳效应的研究。实验表明:厚度大于800(?)的薄膜测量结果与导出的公式符合良好,且平面霍耳电压V_H的磁滞回线有轴对称性,但对较薄的膜则出现对公式的偏离并失去对称性。V_H的幅值可达500μV,开关临界磁场为22×10~(-4)T,晶化以后薄膜的V_H减小约一个数量级。利用平面霍耳效应测量了薄膜的静态磁特性。

关 键 词:平面霍耳效应  非晶态合金  磁性薄膜

THE PLANAR HALL EFFECT IN AMORPHOUS Fe_(83)B_(17) THIN FILM
Chen Bingyu Chang Ruiting Cheng Xianan.THE PLANAR HALL EFFECT IN AMORPHOUS Fe_(83)B_(17) THIN FILM[J].Journal of Beijing University of Aeronautics and Astronautics,1991(4):113-118.
Authors:Chen Bingyu Chang Ruiting Cheng Xianan
Abstract:
Keywords:amorphous alloy  magnetic thin film  planar Hall effect  
本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号