| O-SiCP/Fe界面化学稳定性 |
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| 引用本文： | 汤文明,郑治祥,丁厚福,金志浩. O-SiCP/Fe界面化学稳定性[J]. 航空材料学报, 2001, 21(4): 18-22 |
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| 作者姓名： | 汤文明 郑治祥 丁厚福 金志浩 |
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| 作者单位： | 西安交通大学;合肥工业大学材料科学与工程学院, |
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| 摘 要： | SiC颗粒在静态空气气氛中经1200℃×10h钝化氧化处理后在表面形成厚约0.6μm,具有晶态的β-方石英结构的致密氧化膜.经在氢气气氛,1150℃×1h高温处理,3SiCP/Fe界面反应形成以Fe3Si,颗粒状石墨和Fe3C为主的反应产物.Fe3Si和颗粒状石墨构成反应区,Fe3C在金属基体晶界形成片状珠光体.10SiCP/Fe中的界面反应更加激烈,SiCP被完全消耗,并被由Fe3Si和石墨颗粒构成的反应区所替代,金属基体因含Si量高而脆化.SiCP表面氧化膜通过隔离原本相互接触的SiC与Fe以阻碍Fe,Si和C原子的相互扩散,有利于抑制O-SiCP/Fe界面反应,提高其界面化学稳定性.
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| 关 键 词： | 钝化氧化 界面反应 反应阻挡层 化学稳定性 |
| 文章编号： | 1005-5053(2001)04-0018-05 |
| 修稿时间： | 2001-02-21 |
Study on the chemical compatibility of O-SiCP/Fe |
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